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主題
謝于飛
概要
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銅離子置換低電位沉積錳原子層製備銅錳合金薄膜特性 = = Cu(Mn) Alloy Thin Film Prepared by Using Cu to Replace Underpotential Deposited Mn Through Surface-limited Redox Replacement /
by: 謝于飛
(書目-語言資料,印刷品)
主題
Self-Forming Barrier Layer.
Cu(Mn)合金薄膜.
Underpotential Deposition.
低電位沉積.
Surface-Limited Redox Reaction.
Cu(Mn) alloy thin film.
自形成阻障層.
表面侷限氧化還原反應.
處理中
...
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