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主題
許名沅
概要
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書目資訊
以電化學原子層沉積銅釕薄膜之性質 = = Electrochemical Atomic Layer Deposition of Cu-Ru Film /
by: 許名沅
(書目-語言資料,印刷品)
主題
Cu.
Electrochemical atomic layer deposition.
Ru.
Surface limited redox replacement.
Underpotential deposition.
欠電位沉積.
表面侷限氧化還原取代反應.
釕.
銅.
電化學原子層沉積.
處理中
...
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