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[ subject:"田口方法" ]
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應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Applicatio...
~
Ruey-Shiang Guh
應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
Record Type:
Language materials, printed : monographic
Paralel Title:
Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
Author:
洪志宗,
Secondary Intellectual Responsibility:
顧瑞祥,
Place of Publication:
雲林縣
Published:
國立虎尾科技大學;
Year of Publication:
民100[2011]
Edition:
初版
Description:
77面圖 : 30公分;
Subject:
真空濺鍍
Subject:
田口方法
Subject:
均勻性
Subject:
Vacuum Sputtering
Subject:
Taguchi Method
Subject:
uniformity
Online resource:
http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-1107201103061700
應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
洪, 志宗
應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數
= Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters / 洪志宗撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民100[2011]. - 77面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
真空濺鍍田口方法均勻性Vacuum SputteringTaguchi Methoduniformity
顧, 瑞祥
應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
LDR
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應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數
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Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
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指導教授 : 顧瑞祥
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含參考書目
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碩士論文--國立虎尾科技大學工業工程與管理研究所
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Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
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圖書館B1F 可外借論文區
圖書館B1F 博碩士論文專區
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T003222
圖書館B1F 博碩士論文專區
不流通(NON_CIR)
碩士論文(TM)
TM 008.169M 3443 100
一般使用(Normal)
On shelf
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T003223
圖書館B1F 可外借論文區
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一般圖書
008.169M 3443 100
一般使用(Normal)
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2 records • Pages 1 •
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