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以雙靶高功率脈衝磁控濺鍍共沉積氮化鈦鋯薄膜 = = Deposition...

李旻穎

以雙靶高功率脈衝磁控濺鍍共沉積氮化鈦鋯薄膜 = = Deposition of Titanium Zirconium Nitride Thin Films by Using Dual-Cathode High Power Impulsed Magnetron Sputtering /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	以雙靶高功率脈衝磁控濺鍍共沉積氮化鈦鋯薄膜 =/ 李旻穎.
其他題名:	Deposition of Titanium Zirconium Nitride Thin Films by Using Dual-Cathode High Power Impulsed Magnetron Sputtering /
其他題名:	Deposition of Titanium Zirconium Nitride Thin Films by Using Dual-Cathode High Power Impulsed Magnetron Sputtering.
作者:	李旻穎
出版者:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民112.11.,
面頁冊數:	[10], 59面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:	指導教授: 李炤佑, 郭晉全.
標題:	Heat Treatment. -
電子資源:	電子資源

以雙靶高功率脈衝磁控濺鍍共沉積氮化鈦鋯薄膜 = = Deposition of Titanium Zirconium Nitride Thin Films by Using Dual-Cathode High Power Impulsed Magnetron Sputtering /
李旻穎

以雙靶高功率脈衝磁控濺鍍共沉積氮化鈦鋯薄膜 =Deposition of Titanium Zirconium Nitride Thin Films by Using Dual-Cathode High Power Impulsed Magnetron Sputtering /Deposition of Titanium Zirconium Nitride Thin Films by Using Dual-Cathode High Power Impulsed Magnetron Sputtering.李旻穎. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民112.11. - [10], 59面 :圖, 表 ;30公分.

指導教授: 李炤佑, 郭晉全.

碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士在職專班.

含參考書目.

(平裝).Subjects--Topical Terms:

1020686
Heat Treatment.

以雙靶高功率脈衝磁控濺鍍共沉積氮化鈦鋯薄膜 = = Deposition of Titanium Zirconium Nitride Thin Films by Using Dual-Cathode High Power Impulsed Magnetron Sputtering /
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246 1 1 $a Deposition of Titanium Zirconium Nitride Thin Films by Using Dual-Cathode High Power Impulsed Magnetron Sputtering.
250 $a 初版.
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300 $a [10], 59面 : $b 圖, 表 ; $c 30公分.
500 $a 指導教授: 李炤佑, 郭晉全.
500 $a 學年度: 112.
502 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士在職專班.
504 $a 含參考書目.
563 $a (平裝).
650 # 4 $a Heat Treatment. $3 1020686
650 # 4 $a Wear. $3 1020560
650 # 4 $a HiPIMS. $3 1026671
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650 # 7 $a 熱處理. $2 lcstt $3 832856
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