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Fundamental aspects of silicon oxidation

~

Chabal, Yves Jean (1952)

Fundamental aspects of silicon oxidation

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
其他作者:	ChabalYves Jean, 1952
出版地:	Berlin
出版者:	Springer;
出版年:	c2001
面頁冊數:	xiii, 260 pill. (some col.) : 24 cm;
集叢名:	Springer series in materials science
標題:	Silicon oxide -
ISBN:	354041682X

Fundamental aspects of silicon oxidation
Fundamental aspects of silicon oxidation / Yves J. Chabal (ed.) - Berlin : Springer, c2001. - xiii, 260 p ; ill. (some col.) ; 24 cm. - (Springer series in materials science ; 46).
Includes bibliographical references and index.
ISBN 354041682X
Silicon oxide

Chabal, Yves Jean

Fundamental aspects of silicon oxidation
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館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

E021337

圖書館3F 書庫

一般圖書(BOOK)

一般圖書

546.6832 F981 2001

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