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電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects o...

李俊雄

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity
Author:	李俊雄,
Secondary Intellectual Responsibility:	莊賦祥,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學; 國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	2007,民96
Edition:	初版
Description:	49 面圖 : 30公分;
Series:	光電與材料科技研究所
Online resource:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0130107-161532
Notes:	全文電子檔使用校內外完全公開;國家圖書館於96年1月30日公開

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity
李, 俊雄

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity / 李俊雄 ; 莊賦祥指導 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 2007,民96. - 49 面 ; 圖 ; 30公分. - (光電與材料科技研究所).
全文電子檔使用校內外完全公開;國家圖書館於96年1月30日公開畢業學年度:95指導教授:莊賦祥.

莊, 賦祥

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity
LDR:01275cam0 2200253 450 001 496824
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300 $a 全文電子檔使用校內外完全公開;國家圖書館於96年1月30日公開
300 $a 畢業學年度:95
300 $a 指導教授:莊賦祥 $u Thesis advisor:Fuh-Shyang Juang
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
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