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銦錫氧化物作為銅製程中擴散阻礙層之研究 = Study of Nanoc...

楊立中

銦錫氧化物作為銅製程中擴散阻礙層之研究 = Study of Nanocrystalline Indium Tin Oxide as Diffusion Barrier for Copper Metallization

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Study of Nanocrystalline Indium Tin Oxide as Diffusion Barrier for Copper Metallization
作者:	劉健民,
其他作者:	陳文照,
其他作者:	楊立中,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學; 國立虎尾科技大學;
出版年:	2005,民94
版本:	初版
面頁冊數:	76 面圖 : 30公分;
集叢名:	光電與材料科技研究所
標題:	微晶
標題:	擴散阻礙層
標題:	覆蓋層
標題:	銦錫氧化物
標題:	capping layer
標題:	diffusion barrier
標題:	indium tin oxide
標題:	nanocrystalline
電子資源:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0630105-162410
附註:	全文電子檔使用校內外完全公開

銦錫氧化物作為銅製程中擴散阻礙層之研究 = Study of Nanocrystalline Indium Tin Oxide as Diffusion Barrier for Copper Metallization
劉, 健民

銦錫氧化物作為銅製程中擴散阻礙層之研究 = Study of Nanocrystalline Indium Tin Oxide as Diffusion Barrier for Copper Metallization / 劉健民 ; 陳文照,楊立中指導 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 2005,民94. - 76 面 ; 圖 ; 30公分. - (光電與材料科技研究所).
全文電子檔使用校內外完全公開畢業學年度:93指導教授:楊立中指導教授:陳文照.
微晶擴散阻礙層覆蓋層銦錫氧化物capping layerdiffusion barrierindium tin oxidenanocrystalline

陳, 文照

銦錫氧化物作為銅製程中擴散阻礙層之研究 = Study of Nanocrystalline Indium Tin Oxide as Diffusion Barrier for Copper Metallization
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