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以射頻共濺鍍系統於室溫下沉積透明導電膜之研究 = A transpare...

劉代山

以射頻共濺鍍系統於室溫下沉積透明導電膜之研究 = A transparent conductive oxide films prepared by RF cosputtering system at room temperature

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	A transparent conductive oxide films prepared by RF cosputtering system at room temperature
Author:	吳俊慶,
Secondary Intellectual Responsibility:	劉代山,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學; 國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	2005,民94
Edition:	初版
Description:	66 面圖 : 30公分;
Series:	光電與材料科技研究所
Subject:	共濺鍍
Subject:	氧化銦錫
Subject:	氧化鋅
Subject:	cosputtered
Subject:	indium tin oxide
Subject:	zinc oxide
Online resource:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0719105-150906
Notes:	全文電子檔使用校內於2005年7月19日公開;校外於2006年7月19日公開

以射頻共濺鍍系統於室溫下沉積透明導電膜之研究 = A transparent conductive oxide films prepared by RF cosputtering system at room temperature
吳, 俊慶

以射頻共濺鍍系統於室溫下沉積透明導電膜之研究 = A transparent conductive oxide films prepared by RF cosputtering system at room temperature / 吳俊慶 ; 劉代山指導 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 2005,民94. - 66 面 ; 圖 ; 30公分. - (光電與材料科技研究所).
全文電子檔使用校內於2005年7月19日公開;校外於2006年7月19日公開畢業學年度:93指導教授:劉代山.
共濺鍍氧化銦錫氧化鋅cosputteredindium tin oxidezinc oxide

劉, 代山

以射頻共濺鍍系統於室溫下沉積透明導電膜之研究 = A transparent conductive oxide films prepared by RF cosputtering system at room temperature
LDR:01458cam0 2200337 450 001 498757
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300 $a 全文電子檔使用校內於2005年7月19日公開;校外於2006年7月19日公開
300 $a 畢業學年度:93
300 $a 指導教授:劉代山 $u Thesis advisor:Day-Shun Liu
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
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