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機械設計. (二)

~

林守義

機械設計. (二)

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Secondary Intellectual Responsibility:	盧橙茂,
Secondary Intellectual Responsibility:	林守義,
Secondary Intellectual Responsibility:	季特林,
Place of Publication:	台北市
Published:	高立; 高立;
Year of Publication:	1991
Edition:	2版
Description:	7,493面圖表 : 23公分;

機械設計. (二)
機械設計. (二) / 陳朝光,林守義,盧燈茂主編 - 2版. - 台北市 : 高立, 1991. - 7,493面 ; 圖表 ; 23公分.

盧, 橙茂

機械設計. (二)
LDR:00414cam 2200145 450 001 530836
010 0 $b (平裝) $d 基價6.7元
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101 0 $a chi
102 $a cw
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200 1 $a 機械設計 $f 陳朝光,林守義,盧燈茂主編 $h (二)
205 $a 2版
210 $a 台北市 $c 高立 $d 1991 $c 高立
215 0 $a 7,493面 $c 圖表 $d 23公分
681 $a 446.19 $b 7549
702 $a 盧 $b 橙茂 $3 515724
702 $a 林 $b 守義 $4 主編 $3 515725
702 $b 季特林 $c (Gitlin, Todd) $4 製作 $3 389171

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C101317

圖書館4F 書庫

一般圖書(BOOK)

一般圖書

446.19 7549 v.2 c.3

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