電子束蒸鍍製程參數對ITO透明導電膜之光電特性研究 = Fabricat...
國立虎尾科技大學

 

  • 電子束蒸鍍製程參數對ITO透明導電膜之光電特性研究 = Fabrication and characterization of Indium Tin Oxide transparent conductive films by Electron-Beam Evaporation.
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : 單行本
    並列題名: Fabrication and characterization of Indium Tin Oxide transparent conductive films by Electron-Beam Evaporation.
    作者: 黃孟書,
    其他團體作者: 國立虎尾科技大學
    出版地: [雲林縣]
    出版者: 撰者; 撰者;
    出版年: 民96[2007]
    面頁冊數: 63面圖,表 : 30公分;
    標題: ITO
    標題: 加速電壓
    電子資源: http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0129107-174948
    摘要註: 中文摘要氧化銦錫(Indium Tin Oxide, ITO)最目前廣泛使用的透明導電材料。由於其導電性佳、在可見光區域的穿透率高、在紫外光區具有高吸收等特性。同時在化學上的性質穩定性佳,隨著光電產業的快速成長,被相當廣泛的應用著。本論文探討以電子束蒸發法將ITO鍍於玻璃試片上沉積透明導電膜。在製程中分別調整及控制氧流量、製程基板溫度、膜層厚度以求較佳參數,同時調整改變電子束的加速電壓,來探討各種參數變化對ITO透明導電膜之電性及光性的影響。本論文對各參數對薄膜品質之影響做一系統性之探討。本論文之研究,在適當的參數控制下,在波長470nm的穿透率均在95
多媒體
評論
Export
取書館別
 
 
變更密碼[密碼必須為2種組合(英文和數字)及長度為10碼以上]
登入