國立虎尾科技大學 |

登入

回首頁

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects o...

國立虎尾科技大學

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
作者:	李俊雄,
其他團體作者:	國立虎尾科技大學
出版地:	[雲林縣]
出版者:	撰者; 撰者;
出版年:	民96[2007]
面頁冊數:	60面圖,表 : 30公分;
標題:	電子槍蒸鍍
標題:	Correction Plate in E-beam System
電子資源:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0130107-161532
摘要註:	對於光學薄膜而言其光學特性受厚度均勻的影響非常敏感，尤其在大面積光學鍍膜中，厚度均勻性更顯得相當重要，在製鍍過程中如何使基板上之膜厚均勻分佈，而達成改善厚度分佈均勻之目標，將是本論文討論的重點。論文研究的主題涵蓋以下：鍍5組多層膜，校正求出蒸鍍Ti3O5及SiO2之「平均蒸發時間」製程參數。首先不使用修正板來製鍍多層膜結構﹝膜堆厚度組合1.196(0.5LH0.5L)^9 1.56(0.5LH0.5L)^8﹞ 之濾光片，結果發現膜厚均勻度不佳。因此增加修正板來調整膜厚均勻度。修正板從Ti3O5及SiO2單層膜厚調校做起。實驗結果所獲得的膜厚誤差為2nm。接著製作多層膜濾光片，實驗結果顯示：針對穿透率T=50

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
李, 俊雄

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity / 李俊雄撰 - [雲林縣] : 撰者, 民96[2007]. - 60面 ; 圖,表 ; 30公分.
參考書目：面.
電子槍蒸鍍Correction Plate in E-beam System

電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
LDR:01824nam0 2200229 450 001 540281
010 0 $b 精裝
100 $a 20071207y2007 k y0chiy09 e
101 0 $a chi
102 $a cw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 $d Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity $f 李俊雄撰
210 $a [雲林縣] $c 撰者 $d 民96[2007] $c 撰者
215 0 $a 60面 $c 圖,表 $d 30公分
314 $a 指導教授：莊賦祥
320 $a 參考書目：面
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
330 $a 對於光學薄膜而言其光學特性受厚度均勻的影響非常敏感，尤其在大面積光學鍍膜中，厚度均勻性更顯得相當重要，在製鍍過程中如何使基板上之膜厚均勻分佈，而達成改善厚度分佈均勻之目標，將是本論文討論的重點。論文研究的主題涵蓋以下：鍍5組多層膜，校正求出蒸鍍Ti3O5及SiO2之「平均蒸發時間」製程參數。首先不使用修正板來製鍍多層膜結構﹝膜堆厚度組合1.196(0.5LH0.5L)^9 1.56(0.5LH0.5L)^8﹞ 之濾光片，結果發現膜厚均勻度不佳。因此增加修正板來調整膜厚均勻度。修正板從Ti3O5及SiO2單層膜厚調校做起。實驗結果所獲得的膜厚誤差為2nm。接著製作多層膜濾光片，實驗結果顯示：針對穿透率T=50
510 1 $a Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
610 0 $a 電子槍蒸鍍
610 1 $a Correction Plate in E-beam System
700 $a 李 $b 俊雄 $3 489083
712 $a 國立虎尾科技大學 $b 工業工程與管理究所 $3 523742
801 0 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20071207 $g CCR
856 7 $2 http $u http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0130107-161532 $z PDF全文

筆 0 讀者評論

多媒體

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別