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反應性射頻濺鍍氧化鋅透明導電薄膜之成長機制及其特性之研究 = Growt...

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反應性射頻濺鍍氧化鋅透明導電薄膜之成長機制及其特性之研究 = Growth of Zinc Oxide Transparent Conductive Thin Films by Magnetron RF Reactive Sputtering and Studies of Their Properties

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Growth of Zinc Oxide Transparent Conductive Thin Films by Magnetron RF Reactive Sputtering and Studies of Their Properties
作者:	李岳修,
其他作者:	楊立中,
其他團體作者:	國立虎尾科技大學
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民96[2007]
版本:	初版
面頁冊數:	76面圖,表 : 30公分;
標題:	氧化鋅
標題:	sputter
電子資源:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0625107-234555
摘要註:	本論文利用反應性射頻磁控濺鍍法在載玻片、砷化鎵[111A]、[111B]、[100]基板上製備氧化鋅(ZnO)以及&

反應性射頻濺鍍氧化鋅透明導電薄膜之成長機制及其特性之研究 = Growth of Zinc Oxide Transparent Conductive Thin Films by Magnetron RF Reactive Sputtering and Studies of Their Properties
李, 岳修

反應性射頻濺鍍氧化鋅透明導電薄膜之成長機制及其特性之研究 = Growth of Zinc Oxide Transparent Conductive Thin Films by Magnetron RF Reactive Sputtering and Studies of Their Properties / 李岳修撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民96[2007]. - 76面 ; 圖,表 ; 30公分.
氧化鋅sputter

楊, 立中

反應性射頻濺鍍氧化鋅透明導電薄膜之成長機制及其特性之研究 = Growth of Zinc Oxide Transparent Conductive Thin Films by Magnetron RF Reactive Sputtering and Studies of Their Properties
LDR:01215nam0 2200253 450 001 540298
010 0 $b 平裝
100 $a 20090415h akaa0chia50020302ba
101 0 $a chi
102 $a cw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 反應性射頻濺鍍氧化鋅透明導電薄膜之成長機制及其特性之研究 $d Growth of Zinc Oxide Transparent Conductive Thin Films by Magnetron RF Reactive Sputtering and Studies of Their Properties $f 李岳修撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民96[2007] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 76面 $c 圖,表 $d 30公分
314 $a 指導教授：楊立中
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
330 $a 本論文利用反應性射頻磁控濺鍍法在載玻片、砷化鎵[111A]、[111B]、[100]基板上製備氧化鋅(ZnO)以及&
510 1 $a Growth of Zinc Oxide Transparent Conductive Thin Films by Magnetron RF Reactive Sputtering and Studies of Their Properties
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610 1 $a sputter $a zno
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702 $a 楊 $b 立中 $3 489804
712 $a 國立虎尾科技大學 $b 工業工程與管理究所 $3 523742
770 $a Yueh-Shiu Lee $3 586575
772 $a Li-Chung Yang $3 538303
801 0 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20071207 $g CCR
801 2 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20090415 $g CCR
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