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氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and...
~
李欣縈
氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:
Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
作者:
王銘毅,
其他作者:
李欣縈,
其他團體作者:
國立虎尾科技大學
出版地:
雲林縣
出版者:
國立虎尾科技大學;
出版年:
民96[2007]
版本:
初版
面頁冊數:
89面圖,表 : 30公分;
標題:
氧化鎂鋅
標題:
MSM
電子資源:
http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0724107-165003
摘要註:
本研究利用磁控式射頻濺鍍系統(RF magnetron sputtering system)於藍寶石基板上製備不同鎂含量之氧化鎂鋅薄膜(MgxZn1-xO, x=0、0.1、0.2、0.3及0.36),並於實驗中分別改變射頻功率、濺鍍壓力及氬氣與氧氣氣體流量比,觀察不同製程條件下之氧化鎂鋅薄膜特性。研究中,分別使用原子力顯微鏡(AFM)及X光繞射(XRD)分析薄膜表面平整度與薄膜結晶特性,並且利用紫外線-可見光光譜量測儀(UV-VIS)量測薄膜之光學特性,藉由薄膜之光學特性分析薄膜之光學能隙。 研究結果顯示,利用磁控式射頻濺鍍系統製備之氧化鎂鋅薄膜,其最佳化製程參數,分別為射頻功率100 W、濺鍍壓力10 mtorr、固定氬氣流量10sccm及氧流量在不同鎂含量為x=0(4sccm)、x=0.1(5sccm)、x=0.2(6sccm)、x=0.3(8sccm)及x=0.36(10sccm)。在光學特性方面,氧化鎂鋅薄膜在可見光範圍內,光學穿透率高達90
氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
王, 銘毅
氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究
= Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors / 王銘毅撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民96[2007]. - 89面 ; 圖,表 ; 30公分.
氧化鎂鋅MSM
李, 欣縈
氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
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氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究
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Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
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王銘毅撰
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國立虎尾科技大學
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30公分
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指導教授:李欣縈
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碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
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本研究利用磁控式射頻濺鍍系統(RF magnetron sputtering system)於藍寶石基板上製備不同鎂含量之氧化鎂鋅薄膜(MgxZn1-xO, x=0、0.1、0.2、0.3及0.36),並於實驗中分別改變射頻功率、濺鍍壓力及氬氣與氧氣氣體流量比,觀察不同製程條件下之氧化鎂鋅薄膜特性。研究中,分別使用原子力顯微鏡(AFM)及X光繞射(XRD)分析薄膜表面平整度與薄膜結晶特性,並且利用紫外線-可見光光譜量測儀(UV-VIS)量測薄膜之光學特性,藉由薄膜之光學特性分析薄膜之光學能隙。 研究結果顯示,利用磁控式射頻濺鍍系統製備之氧化鎂鋅薄膜,其最佳化製程參數,分別為射頻功率100 W、濺鍍壓力10 mtorr、固定氬氣流量10sccm及氧流量在不同鎂含量為x=0(4sccm)、x=0.1(5sccm)、x=0.2(6sccm)、x=0.3(8sccm)及x=0.36(10sccm)。在光學特性方面,氧化鎂鋅薄膜在可見光範圍內,光學穿透率高達90
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Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
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氧化鎂鋅
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紫外光檢測器
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金屬-半導體-金屬
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UV Photodetectors
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工業工程與管理究所
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TM 008.166M 1080 96
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