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氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and...

李欣縈

氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
Author:	王銘毅,
Secondary Intellectual Responsibility:	李欣縈,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立虎尾科技大學
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民96[2007]
Edition:	初版
Description:	89面圖,表 : 30公分;
Subject:	氧化鎂鋅
Subject:	MSM
Online resource:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0724107-165003
Summary:	本研究利用磁控式射頻濺鍍系統(RF magnetron sputtering system)於藍寶石基板上製備不同鎂含量之氧化鎂鋅薄膜(MgxZn1-xO, x=0、0.1、0.2、0.3及0.36)，並於實驗中分別改變射頻功率、濺鍍壓力及氬氣與氧氣氣體流量比，觀察不同製程條件下之氧化鎂鋅薄膜特性。研究中，分別使用原子力顯微鏡(AFM)及X光繞射(XRD)分析薄膜表面平整度與薄膜結晶特性，並且利用紫外線-可見光光譜量測儀(UV-VIS)量測薄膜之光學特性，藉由薄膜之光學特性分析薄膜之光學能隙。研究結果顯示，利用磁控式射頻濺鍍系統製備之氧化鎂鋅薄膜，其最佳化製程參數，分別為射頻功率100 W、濺鍍壓力10 mtorr、固定氬氣流量10sccm及氧流量在不同鎂含量為x=0(4sccm)、x=0.1(5sccm)、x=0.2(6sccm)、x=0.3(8sccm)及x=0.36(10sccm)。在光學特性方面，氧化鎂鋅薄膜在可見光範圍內，光學穿透率高達90

氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
王, 銘毅

氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors / 王銘毅撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民96[2007]. - 89面 ; 圖,表 ; 30公分.
氧化鎂鋅MSM

李, 欣縈

氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 = Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
LDR:01981nam0 2200253 450 001 540341
010 0 $b 平裝
100 $a 20090415h akaa0chia50020302ba
101 0 $a chi
102 $a cw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 氧化鎂鋅紫外光檢測器之製作及特性研究 $d Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors $f 王銘毅撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民96[2007] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 89面 $c 圖,表 $d 30公分
314 $a 指導教授：李欣縈
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
330 $a 本研究利用磁控式射頻濺鍍系統(RF magnetron sputtering system)於藍寶石基板上製備不同鎂含量之氧化鎂鋅薄膜(MgxZn1-xO, x=0、0.1、0.2、0.3及0.36)，並於實驗中分別改變射頻功率、濺鍍壓力及氬氣與氧氣氣體流量比，觀察不同製程條件下之氧化鎂鋅薄膜特性。研究中，分別使用原子力顯微鏡(AFM)及X光繞射(XRD)分析薄膜表面平整度與薄膜結晶特性，並且利用紫外線-可見光光譜量測儀(UV-VIS)量測薄膜之光學特性，藉由薄膜之光學特性分析薄膜之光學能隙。研究結果顯示，利用磁控式射頻濺鍍系統製備之氧化鎂鋅薄膜，其最佳化製程參數，分別為射頻功率100 W、濺鍍壓力10 mtorr、固定氬氣流量10sccm及氧流量在不同鎂含量為x=0(4sccm)、x=0.1(5sccm)、x=0.2(6sccm)、x=0.3(8sccm)及x=0.36(10sccm)。在光學特性方面，氧化鎂鋅薄膜在可見光範圍內，光學穿透率高達90
510 1 $a Fabrication and Characterization of MgxZn1-xO Based UV Photodetectors
610 0 $a 氧化鎂鋅 $a 紫外光檢測器 $a 金屬-半導體-金屬
610 1 $a MSM $a MgZnO $a UV Photodetectors
681 $a 008.166M $b 1080
700 $a 王 $b 銘毅 $3 523801
702 $a 李 $b 欣縈 $3 491530
712 $a 國立虎尾科技大學 $b 工業工程與管理究所 $3 523742
770 $a Ming-Yi Wang $3 586569
772 $a Hsin-Ying Lee $3 538406
801 0 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20071207 $g CCR
801 2 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20090415 $g CCR
856 7 $u http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0724107-165003