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利用電漿增強化學氣相沉積技術製作超親水自清潔氧化鈦薄膜之研究 = The...

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利用電漿增強化學氣相沉積技術製作超親水自清潔氧化鈦薄膜之研究 = The study of a titanium oxide film with self-cleaning ability prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	The study of a titanium oxide film with self-cleaning ability prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique
Author:	黃炳文,
Secondary Intellectual Responsibility:	劉代山,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立虎尾科技大學
Place of Publication:	[雲林縣]
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民96[2007]
Edition:	初版
Description:	101面圖,表 : 30公分;
Subject:	電漿增強化學氣相沉積法
Subject:	PECVD
Online resource:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0730107-192122
Summary:	本研究利用電漿增強化學氣相沉積法於室溫下在塑膠基板上沉積具有親水特性及硬化效果之薄膜，研究中主要以有機材料-四異丙烷氧化鈦及氧氣氣體為源材料，沉積具有超親水自清潔功能之氧化鈦薄膜，接著，再於製程過程中通入四甲基矽烷有機氣體，沉積氧化鈦-氧化矽複合薄膜，增強氧化鈦薄膜之機械強度。研究結果顯示，於室溫環境下，使用電漿增強化學氣相沉積法，可以在最佳化製程條件下，製備具有親水特性(水滴接觸角小於20o )之非晶氧化鈦薄膜(a-TiOX:O-H)，然而此非晶氧化鈦薄膜放置於一般大氣環境暗處下，水滴接觸角特性會隨時間增加而上升，由於氧化鈦薄膜所具有之光觸媒特性，經由紫外線燈照射後，使得氧化鈦薄膜具有優異超親水特性(5o以下)。為了進一步觀察氧化鈦薄膜之結晶特性與光觸媒效應之關係，本研究藉由升溫製程以及後續熱處理製程，優化氧化鈦薄膜之結構與結晶特性，研究結果顯示，升溫製程可以使得薄膜緻密性提升，並且使氧化鈦薄膜之化學組成接近二氧化鈦之化學計量比，而針對上述室溫及升溫製程所製備之非晶氧化鈦薄膜進行後續熱處理後，可以發現，熱處理溫度到達400 oC時，非晶氧化鈦薄膜轉變為具有(101)、(112)、(200)及(211)等銳鈦礦結晶相之多晶二氧化鈦薄膜，光觸媒效果有顯著的提升，經過紫外線燈(1 mW/cm2)照射一小時後，水滴接觸角特性皆趨近於0o，具有超親水自清潔的效果。

利用電漿增強化學氣相沉積技術製作超親水自清潔氧化鈦薄膜之研究 = The study of a titanium oxide film with self-cleaning ability prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique
黃, 炳文

利用電漿增強化學氣相沉積技術製作超親水自清潔氧化鈦薄膜之研究 = The study of a titanium oxide film with self-cleaning ability prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique / 黃炳文撰 - 初版. - [雲林縣] : 國立虎尾科技大學, 民96[2007]. - 101面 ; 圖,表 ; 30公分.
電漿增強化學氣相沉積法PECVD

劉, 代山

利用電漿增強化學氣相沉積技術製作超親水自清潔氧化鈦薄膜之研究 = The study of a titanium oxide film with self-cleaning ability prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique
LDR:02791nam0 2200253 450 001 540350
010 0 $b 平裝
100 $a 20090415h akaa0chia50020302ba
101 0 $a chi
102 $a cw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 利用電漿增強化學氣相沉積技術製作超親水自清潔氧化鈦薄膜之研究 $d The study of a titanium oxide film with self-cleaning ability prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique $f 黃炳文撰
205 $a 初版
210 $a [雲林縣] $d 民96[2007] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 101面 $c 圖,表 $d 30公分
314 $a 指導教授：劉代山
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
330 $a 本研究利用電漿增強化學氣相沉積法於室溫下在塑膠基板上沉積具有親水特性及硬化效果之薄膜，研究中主要以有機材料-四異丙烷氧化鈦及氧氣氣體為源材料，沉積具有超親水自清潔功能之氧化鈦薄膜，接著，再於製程過程中通入四甲基矽烷有機氣體，沉積氧化鈦-氧化矽複合薄膜，增強氧化鈦薄膜之機械強度。研究結果顯示，於室溫環境下，使用電漿增強化學氣相沉積法，可以在最佳化製程條件下，製備具有親水特性(水滴接觸角小於20o )之非晶氧化鈦薄膜(a-TiOX:O-H)，然而此非晶氧化鈦薄膜放置於一般大氣環境暗處下，水滴接觸角特性會隨時間增加而上升，由於氧化鈦薄膜所具有之光觸媒特性，經由紫外線燈照射後，使得氧化鈦薄膜具有優異超親水特性(5o以下)。為了進一步觀察氧化鈦薄膜之結晶特性與光觸媒效應之關係，本研究藉由升溫製程以及後續熱處理製程，優化氧化鈦薄膜之結構與結晶特性，研究結果顯示，升溫製程可以使得薄膜緻密性提升，並且使氧化鈦薄膜之化學組成接近二氧化鈦之化學計量比，而針對上述室溫及升溫製程所製備之非晶氧化鈦薄膜進行後續熱處理後，可以發現，熱處理溫度到達400 oC時，非晶氧化鈦薄膜轉變為具有(101)、(112)、(200)及(211)等銳鈦礦結晶相之多晶二氧化鈦薄膜，光觸媒效果有顯著的提升，經過紫外線燈(1 mW/cm2)照射一小時後，水滴接觸角特性皆趨近於0o，具有超親水自清潔的效果。
510 1 $a The study of a titanium oxide film with self-cleaning ability prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition technique
610 0 $a 電漿增強化學氣相沉積法 $a 非晶氧化鈦
610 1 $a PECVD $a amorphous titanium oxide
681 $a 008.166M $b 4490
700 $a 黃 $b 炳文 $3 523809
702 $a 劉 $b 代山 $3 490565
712 $a 國立虎尾科技大學 $b 工業工程與管理究所 $3 523742
770 $a Bing-Wen Huang $3 586594
772 $a Day-Shan Liu $3 541116
801 0 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20071207 $g CCR
801 2 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20090415 $g CCR
856 7 $u http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0730107-192122