利用射頻磁控共濺鍍系統沉積鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜 = Aluminum...
劉代山

 

  • 利用射頻磁控共濺鍍系統沉積鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜 = Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : 單行本
    並列題名: Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system
    作者: 許加昇,
    其他作者: 劉代山,
    其他團體作者: 國立虎尾科技大學
    出版地: 雲林縣
    出版者: 國立虎尾科技大學;
    出版年: 民96[2007]
    版本: 初版
    面頁冊數: 75面圖,表 : 30公分;
    標題: 氧化鋅
    標題: ZnO
    電子資源: http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0731107-013001
    摘要註: 本研究利用射頻磁控共濺鍍系統,以氧化鋅以及氮化鋁為共濺鍍靶材,藉由改變施加在氧化鋅及氮化鋁靶材之射頻功率,製作並控制具有不同濃度的鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜,並在氮氣環境下進行後續熱處理製程,藉以活化摻雜在薄膜中的受體離子,製作p型氧化鋅薄膜。研究結果顯示,在室溫下所沉積之具有不同鋁原子濃度之共濺鍍薄膜呈現n型的導電型態,且薄膜的電子濃度隨著鋁原子濃度的上升而上升,當鋁原子理論值含量[Al/(Zn+Al)]為60
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