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以電鑄方式製作高深寬比週期性結構之金屬光柵 = Fabrication ...

王鵬程

以電鑄方式製作高深寬比週期性結構之金屬光柵 = Fabrication of high aspect ratio periodical structure on metal using an electroforming process

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Fabrication of high aspect ratio periodical structure on metal using an electroforming process
作者:	王鵬程,
其他作者:	何智廷,
其他團體作者:	國立虎尾科技大學
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民96[2007]
版本:	初版
面頁冊數:	75面圖,表 : 30公分;
標題:	光柵
標題:	Electroforming
電子資源:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0607107-194225
摘要註:	由於光感測具有不受電磁干擾、體積小、信號易於傳輸等優點，且光對於微細變化的靈敏度比傳統電子感測器高出許多。因此我們提出結合光纖感測技術中之光柵結構與金屬材料進行一個新的感測器之製作想法，針對繞射光柵是否可運用在力感測器上。本研究主要是以全像術干涉微影技術製作金屬光柵，其目的於未來應用作為力感測器之元件。高分子光柵感測器未來可以直接應用在生醫感測器上，但如果將此高分子光柵感測器黏貼在金屬上，則其反射光之變化必須將界面及金屬反射機構考慮進去，使得計算光柵週期之變化變得極為複雜，且此高分子光柵感測器只能應用於微小力量感測上，而金屬光柵感測器可以應用於較大力量感測上。因此我們利用半導體製程技術與全像術干涉微影技術將繞射光柵設計製作於光阻材料上，然後利用蒸／濺鍍製程鍍上一層200nm厚度之金屬薄膜，再使用LIGA-like製程中的電鑄模造技術來翻製金屬光柵。最後，可以準確的得到和母膜光柵之週期、深度誤差極小的金屬光柵模仁。因金屬光柵感測器至今尚無相關文獻出現，未來尚有許多研究方向可進行，期望此方法可提供製作感測器更多元化之應用與發展。 A procedure for fabricating a periodic structure on a metal at submicron order using holographic interferometry and molding processes is described. First, holographic interferometry using a He-Cd (325nm) laser was used to create the master of the periodic line structure on an i-line sub-micron positive photoresist. A 200nm nickel thin film was then sputtered onto the positive photoresist. Pattern was then transferred to a metal using Nickel-Cobalt electroforming. Initial results show the technique can accurately control the grating’s period and depth.

以電鑄方式製作高深寬比週期性結構之金屬光柵 = Fabrication of high aspect ratio periodical structure on metal using an electroforming process
王, 鵬程

以電鑄方式製作高深寬比週期性結構之金屬光柵 = Fabrication of high aspect ratio periodical structure on metal using an electroforming process / 王鵬程撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民96[2007]. - 75面 ; 圖,表 ; 30公分.
參考書目：72-75面.
光柵Electroforming

何, 智廷

以電鑄方式製作高深寬比週期性結構之金屬光柵 = Fabrication of high aspect ratio periodical structure on metal using an electroforming process
LDR:03105nam a2200265 a 4500 001 540393
010 0 $b 平裝
100 $a 20090410h akaa0chia50020302ba
101 0 $a chi
102 $a cw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 以電鑄方式製作高深寬比週期性結構之金屬光柵 $d Fabrication of high aspect ratio periodical structure on metal using an electroforming process $f 王鵬程撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民96[2007] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 75面 $c 圖,表 $d 30公分
314 $a 指導教授：何智廷
320 $a 參考書目：72-75面
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學機械與機電工程研究所
330 $a 由於光感測具有不受電磁干擾、體積小、信號易於傳輸等優點，且光對於微細變化的靈敏度比傳統電子感測器高出許多。因此我們提出結合光纖感測技術中之光柵結構與金屬材料進行一個新的感測器之製作想法，針對繞射光柵是否可運用在力感測器上。本研究主要是以全像術干涉微影技術製作金屬光柵，其目的於未來應用作為力感測器之元件。高分子光柵感測器未來可以直接應用在生醫感測器上，但如果將此高分子光柵感測器黏貼在金屬上，則其反射光之變化必須將界面及金屬反射機構考慮進去，使得計算光柵週期之變化變得極為複雜，且此高分子光柵感測器只能應用於微小力量感測上，而金屬光柵感測器可以應用於較大力量感測上。因此我們利用半導體製程技術與全像術干涉微影技術將繞射光柵設計製作於光阻材料上，然後利用蒸／濺鍍製程鍍上一層200nm厚度之金屬薄膜，再使用LIGA-like製程中的電鑄模造技術來翻製金屬光柵。最後，可以準確的得到和母膜光柵之週期、深度誤差極小的金屬光柵模仁。因金屬光柵感測器至今尚無相關文獻出現，未來尚有許多研究方向可進行，期望此方法可提供製作感測器更多元化之應用與發展。 A procedure for fabricating a periodic structure on a metal at submicron order using holographic interferometry and molding processes is described. First, holographic interferometry using a He-Cd (325nm) laser was used to create the master of the periodic line structure on an i-line sub-micron positive photoresist. A 200nm nickel thin film was then sputtered onto the positive photoresist. Pattern was then transferred to a metal using Nickel-Cobalt electroforming. Initial results show the technique can accurately control the grating’s period and depth.
510 1 $a Fabrication of high aspect ratio periodical structure on metal using an electroforming process
610 0 $a 光柵 $a 全像術干涉微影技術法 $a 金屬光柵 $a 電鑄
610 1 $a Electroforming $a Grating $a Holographic Interference Lithography $a Metal Grating
681 $a 008.154M $b 1072
700 $a 王 $b 鵬程 $4 著 $3 466734
702 $a 何 $b 智廷 $3 490810
712 $a 國立虎尾科技大學 $b 工業工程與管理究所 $3 523742
801 0 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20071207 $g CCR
801 2 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20090410 $g CCR
856 7 $u http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0607107-194225