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分子動力學模擬原子轟擊與離子佈植之物理機制研究 = Physical m...

T.H. Fang

分子動力學模擬原子轟擊與離子佈植之物理機制研究 = Physical mechanisms of atomic bombardment and ionic implantation using molecular dynamics simulations

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Physical mechanisms of atomic bombardment and ionic implantation using molecular dynamics simulations
作者:	廖佳鴻,
其他作者:	方得華,
其他團體作者:	國立虎尾科技大學
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民96[2007]
版本:	初版
面頁冊數:	162面圖,表 : 30公分;
標題:	分子動力學
標題:	atomic force microscope
電子資源:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0725107-100734
摘要註:	摻雜技術是許多高科技元件中關鍵的技術之一，而高品質的摻雜技術在其半導體製備過程中的製程參數控制對最後的品質有最直接的影響，本文研究的目的將運用分子動&

分子動力學模擬原子轟擊與離子佈植之物理機制研究 = Physical mechanisms of atomic bombardment and ionic implantation using molecular dynamics simulations
廖, 佳鴻

分子動力學模擬原子轟擊與離子佈植之物理機制研究 = Physical mechanisms of atomic bombardment and ionic implantation using molecular dynamics simulations / 廖佳鴻撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民96[2007]. - 162面 ; 圖,表 ; 30公分.
分子動力學atomic force microscope

方, 得華

分子動力學模擬原子轟擊與離子佈植之物理機制研究 = Physical mechanisms of atomic bombardment and ionic implantation using molecular dynamics simulations
LDR:01372nam0 2200253 450 001 540419
010 0 $b 平裝
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101 0 $a chi
102 $a cw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 分子動力學模擬原子轟擊與離子佈植之物理機制研究 $d Physical mechanisms of atomic bombardment and ionic implantation using molecular dynamics simulations $f 廖佳鴻撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民96[2007] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 162面 $c 圖,表 $d 30公分
314 $a 指導教授：方得華
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學機械與機電工程研究所
330 $a 摻雜技術是許多高科技元件中關鍵的技術之一，而高品質的摻雜技術在其半導體製備過程中的製程參數控制對最後的品質有最直接的影響，本文研究的目的將運用分子動&
510 1 $a Physical mechanisms of atomic bombardment and ionic implantation using molecular dynamics simulations
610 0 $a 分子動力學 $a 原子轟擊 $a 氮摻雜 $a 離子佈植
610 1 $a atomic force microscope $a contact angle $a ion implantation $a molecular dynamics $a nanoindentation
681 $a 008.154M $b 0023
700 $a 廖 $b 佳鴻 $3 523888
702 $a 方 $b 得華 $3 488803
712 $a 國立虎尾科技大學 $b 工業工程與管理究所 $3 523742
770 $a Jia-Hung Liau $3 586533
772 $a T.H. Fang $3 541123
801 0 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20071207 $g CCR
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