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ITO 擴散阻障層直接電鍍銅之研究 = Study of cu film...

簡竹模

ITO 擴散阻障層直接電鍍銅之研究 = Study of cu film directly electroplating on induim tin oxide diffusion barrier

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Study of cu film directly electroplating on induim tin oxide diffusion barrier
Author:	簡竹模,
Secondary Intellectual Responsibility:	謝淑惠,
Secondary Intellectual Responsibility:	張益新,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民97[2008]
Edition:	初版
Description:	108面圖 : 30公分;
Subject:	擴散阻障層
Subject:	銦錫氧化學
Subject:	電鍍銅
Subject:	ITO
Subject:	diffusion barrier
Subject:	electroplating Cu
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-3007200811213300

ITO 擴散阻障層直接電鍍銅之研究 = Study of cu film directly electroplating on induim tin oxide diffusion barrier
簡, 竹模

ITO 擴散阻障層直接電鍍銅之研究 = Study of cu film directly electroplating on induim tin oxide diffusion barrier / 簡竹模撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民97[2008]. - 108面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
擴散阻障層銦錫氧化學電鍍銅ITOdiffusion barrierelectroplating Cu

謝, 淑惠

ITO 擴散阻障層直接電鍍銅之研究 = Study of cu film directly electroplating on induim tin oxide diffusion barrier
LDR:01104nam0 2200289 450 001 549197
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210 $a 雲林縣 $d 民97[2008] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 108面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 謝淑惠、張益新
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a Study of cu film directly electroplating on induim tin oxide diffusion barrier
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