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不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A stu...

Day-Shan Liu

不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films
作者:	莊翔鈞,
其他作者:	劉代山,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民97[2008]
版本:	初版
面頁冊數:	67面圖 : 30公分;
標題:	氧化鋅緩衝層
標題:	氧化鋅薄膜
標題:	熱退火
標題:	ZnO buffer layer
標題:	ZnO thin film
標題:	annealing
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2307200811554300

不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films
莊, 翔鈞

不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films / 莊翔鈞撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民97[2008]. - 67面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
氧化鋅緩衝層氧化鋅薄膜熱退火ZnO buffer layerZnO thin filmannealing

劉, 代山

不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films
LDR:01224nam a2200289 a 4500 001 549236
010 0 $b 平裝
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101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
200 1 $a 不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 $d A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films $f 莊翔鈞撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民97[2008] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 67面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 劉代山
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films
610 0 $a 氧化鋅緩衝層
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610 0 $a 熱退火
610 1 $a ZnO buffer layer
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772 $a Day-Shan Liu $3 541116
801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081111
801 1 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081223
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