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物理氣相沈積法沈積銅銦鎵硒前驅層與快速退火處理形成黃銅礦結構之研究與分析...

楊立中

物理氣相沈積法沈積銅銦鎵硒前驅層與快速退火處理形成黃銅礦結構之研究與分析 = Investigation and analysis of chalcopyrite thin films prepared by pvd to deposit cu(in,ga)se2 precursor and rapid thermal processing

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Investigation and analysis of chalcopyrite thin films prepared by pvd to deposit cu(in,ga)se2 precursor and rapid thermal processing
作者:	廖峻尉,
其他作者:	楊立中,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民97[2008]
版本:	初版
面頁冊數:	102面圖 : 30公分;
標題:	快速退火處理
標題:	物理氣相沈積法
標題:	銅銦鎵硒
標題:	CIGS
標題:	PVD
標題:	RTA
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2406200815025900

物理氣相沈積法沈積銅銦鎵硒前驅層與快速退火處理形成黃銅礦結構之研究與分析 = Investigation and analysis of chalcopyrite thin films prepared by pvd to deposit cu(in,ga)se2 precursor and rapid thermal processing
廖, 峻尉

物理氣相沈積法沈積銅銦鎵硒前驅層與快速退火處理形成黃銅礦結構之研究與分析 = Investigation and analysis of chalcopyrite thin films prepared by pvd to deposit cu(in,ga)se2 precursor and rapid thermal processing / 廖峻尉撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民97[2008]. - 102面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
快速退火處理物理氣相沈積法銅銦鎵硒CIGSPVDRTA

楊, 立中

物理氣相沈積法沈積銅銦鎵硒前驅層與快速退火處理形成黃銅礦結構之研究與分析 = Investigation and analysis of chalcopyrite thin films prepared by pvd to deposit cu(in,ga)se2 precursor and rapid thermal processing
LDR:01250nam0 2200289 450 001 549293
010 0 $b 平裝
100 $a 20090331h akaa0chia50020302ba
101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
200 1 $a 物理氣相沈積法沈積銅銦鎵硒前驅層與快速退火處理形成黃銅礦結構之研究與分析 $d Investigation and analysis of chalcopyrite thin films prepared by pvd to deposit cu(in,ga)se2 precursor and rapid thermal processing $f 廖峻尉撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民97[2008] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 102面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 楊立中
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a Investigation and analysis of chalcopyrite thin films prepared by pvd to deposit cu(in,ga)se2 precursor and rapid thermal processing
610 0 $a 快速退火處理
610 0 $a 物理氣相沈積法
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772 $a Li-Chung Yang $3 538303
801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081111
801 1 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081225
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