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變壓器耦合電漿蝕刻系統開發與製程參數之探討 = Development ...

莊賦祥

變壓器耦合電漿蝕刻系統開發與製程參數之探討 = Development and Process Parameters of Transformer Coupled Plasma Etching System

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Development and Process Parameters of Transformer Coupled Plasma Etching System
Author:	徐瓊芳,
Secondary Intellectual Responsibility:	莊賦祥,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民99[2010]
Edition:	初版
Description:	52面圖 : 30公分;
Subject:	TCP
Subject:	藍寶石基板
Subject:	蝕刻
Subject:	關鍵字:變壓器耦合電漿
Subject:	Keywords: transformer coupled plasma
Subject:	TCP
Subject:	etching
Subject:	sapphire
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-3008201009495200

變壓器耦合電漿蝕刻系統開發與製程參數之探討 = Development and Process Parameters of Transformer Coupled Plasma Etching System
徐, 瓊芳

變壓器耦合電漿蝕刻系統開發與製程參數之探討 = Development and Process Parameters of Transformer Coupled Plasma Etching System / 徐瓊芳撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 52面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
TCP藍寶石基板蝕刻關鍵字:變壓器耦合電漿Keywords: transformer coupled plasmaTCPetchingsapphire

莊, 賦祥

變壓器耦合電漿蝕刻系統開發與製程參數之探討 = Development and Process Parameters of Transformer Coupled Plasma Etching System
LDR:01180nam0 2200313 450 001 649017
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210 $a 雲林縣 $d 民99[2010] $c 國立虎尾科技大學
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314 $a 指導教授 : 莊賦祥
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
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