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有機金屬化學氣相沉積法成長氧化鋅薄膜於矽基板上的特性分析 = Chara...

徐欽民

有機金屬化學氣相沉積法成長氧化鋅薄膜於矽基板上的特性分析 = Characteristics of ZnO thin films grown on silicon substrate using metalorganic chemical vapor deposition method

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Characteristics of ZnO thin films grown on silicon substrate using metalorganic chemical vapor deposition method
Author:	徐欽民,
Secondary Intellectual Responsibility:	水瑞鐏,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民99[2010]
Edition:	初版
Description:	68面圖 : 30公分;
Subject:	有機金屬化學氣相沉積法
Subject:	氧化鋅
Subject:	螢光光譜儀
Subject:	霍爾量測
Subject:	Hall measurement
Subject:	MOCVD
Subject:	Photoluminescence
Subject:	ZnO
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-0508201009595200

有機金屬化學氣相沉積法成長氧化鋅薄膜於矽基板上的特性分析 = Characteristics of ZnO thin films grown on silicon substrate using metalorganic chemical vapor deposition method
徐, 欽民

有機金屬化學氣相沉積法成長氧化鋅薄膜於矽基板上的特性分析 = Characteristics of ZnO thin films grown on silicon substrate using metalorganic chemical vapor deposition method / 徐欽民撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 68面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
有機金屬化學氣相沉積法氧化鋅螢光光譜儀霍爾量測Hall measurementMOCVDPhotoluminescenceZnO

水, 瑞鐏

有機金屬化學氣相沉積法成長氧化鋅薄膜於矽基板上的特性分析 = Characteristics of ZnO thin films grown on silicon substrate using metalorganic chemical vapor deposition method
LDR:01268nam0 2200313 450 001 649152
010 0 $b 平裝
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101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
200 1 $a 有機金屬化學氣相沉積法成長氧化鋅薄膜於矽基板上的特性分析 $d Characteristics of ZnO thin films grown on silicon substrate using metalorganic chemical vapor deposition method $f 徐欽民撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民99[2010] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 68面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 水瑞鐏
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a Characteristics of ZnO thin films grown on silicon substrate using metalorganic chemical vapor deposition method
610 0 $a 有機金屬化學氣相沉積法
610 0 $a 氧化鋅
610 0 $a 螢光光譜儀
610 0 $a 霍爾量測
610 1 $a Hall measurement
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801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20100914
801 1 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20101013
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