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氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and ...

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鄭漢源

氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film
作者:	鄭漢源,
其他作者:	蔡丕椿,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民99[2010]
版本:	初版
面頁冊數:	123面圖 : 30公分;
標題:	氮化鋁矽(Al-Si-N)薄膜
標題:	氧電漿處理
標題:	表面改質
標題:	Al-Si-N thin film
標題:	oxygen plasma treatment
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2807201020192200

氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film
鄭, 漢源

氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film / 鄭漢源撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 123面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
氮化鋁矽(Al-Si-N)薄膜氧電漿處理表面改質Al-Si-N thin filmoxygen plasma treatment

蔡, 丕椿

氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film
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314 $a 指導教授 : 蔡丕椿
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與綠色能源工程研究所
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