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氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and ...

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鄭漢源

氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film
Author:	鄭漢源,
Secondary Intellectual Responsibility:	蔡丕椿,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民99[2010]
Edition:	初版
Description:	123面圖 : 30公分;
Subject:	氮化鋁矽(Al-Si-N)薄膜
Subject:	氧電漿處理
Subject:	表面改質
Subject:	Al-Si-N thin film
Subject:	oxygen plasma treatment
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2807201020192200

氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film
鄭, 漢源

氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film / 鄭漢源撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 123面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
氮化鋁矽(Al-Si-N)薄膜氧電漿處理表面改質Al-Si-N thin filmoxygen plasma treatment

蔡, 丕椿

氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 = The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film
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010 0 $b 平裝
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200 1 $a 氮化鋁矽薄膜的合成及氧電漿處理 $d The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film $f 鄭漢源撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民99[2010] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 123面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 蔡丕椿
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與綠色能源工程研究所
510 1 $a The Synthesis and Oxygen Plasma Treatment of AlSiN Thin film
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碩士論文(TM)

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