在玻璃與塑膠基板上研製二氧化鉿作為氧化鋅薄膜電晶體的閘極介電層與特性分析...
姬梁文

 

  • 在玻璃與塑膠基板上研製二氧化鉿作為氧化鋅薄膜電晶體的閘極介電層與特性分析 = Fabrication and Characterization of HfO2 High-K Gate Insulator for Transparent ZnO Thin-Film Transistors on Glass and Plastic Substrates
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : 單行本
    並列題名: Fabrication and Characterization of HfO2 High-K Gate Insulator for Transparent ZnO Thin-Film Transistors on Glass and Plastic Substrates
    作者: 陳宗勳,
    其他作者: 姬梁文,
    其他作者: 楊立中,
    出版地: 雲林縣
    出版者: 國立虎尾科技大學;
    出版年: 民99[2010]
    版本: 初版
    面頁冊數: 95面圖 : 30公分;
    標題: 二氧化鉿
    標題: 場效電晶體
    標題: 氧化鋅
    標題: HfO2
    標題: ZnO
    標題: field-effect transistor
    電子資源: http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-1507201015093400
館藏
  • 2 筆 • 頁數 1 •
 
T001624 圖書館B1F 博碩士論文專區 不流通(NON_CIR) 碩士論文(TM) TM 008.166M 7532 99 一般使用(Normal) 在架 0
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