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混和氫氣、氬氣或氮氣於乙炔中對電漿輔助化學氣相法沉積類鑽碳膜之機械與耐磨...

Jiong-Shiun Hsu

混和氫氣、氬氣或氮氣於乙炔中對電漿輔助化學氣相法沉積類鑽碳膜之機械與耐磨耗特性的影響 = Mechanical and Wear Properties of Diamond-like Carbon Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Acetylene Mixed with H2, Ar or N2.

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Mechanical and Wear Properties of Diamond-like Carbon Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Acetylene Mixed with H2, Ar or N2.
作者:	張青原,
其他作者:	徐炯勛,
其他作者:	曾信雄,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民100[2011]
版本:	初版
面頁冊數:	86面圖 : 30公分;
標題:	類鑽碳膜
標題:	機械性質
標題:	磨耗性質
標題:	電漿輔助化學氣相沉積法
標題:	Diamond-like carbon films
標題:	Mechanical properties
標題:	Wear property
標題:	Plasma enhanced chemical vapor deposition
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2908201101530900

混和氫氣、氬氣或氮氣於乙炔中對電漿輔助化學氣相法沉積類鑽碳膜之機械與耐磨耗特性的影響 = Mechanical and Wear Properties of Diamond-like Carbon Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Acetylene Mixed with H2, Ar or N2.
張, 青原

混和氫氣、氬氣或氮氣於乙炔中對電漿輔助化學氣相法沉積類鑽碳膜之機械與耐磨耗特性的影響 = Mechanical and Wear Properties of Diamond-like Carbon Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Acetylene Mixed with H2, Ar or N2. / 張青原撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民100[2011]. - 86面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
類鑽碳膜機械性質磨耗性質電漿輔助化學氣相沉積法Diamond-like carbon filmsMechanical propertiesWear propertyPlasma enhanced chemical vapor deposition

徐, 炯勛

混和氫氣、氬氣或氮氣於乙炔中對電漿輔助化學氣相法沉積類鑽碳膜之機械與耐磨耗特性的影響 = Mechanical and Wear Properties of Diamond-like Carbon Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Acetylene Mixed with H2, Ar or N2.
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010 0 $b 平裝
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210 $a 雲林縣 $d 民100[2011] $c 國立虎尾科技大學
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314 $a 指導教授 : 徐炯勛
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學機械與機電工程研究所
510 1 $a Mechanical and Wear Properties of Diamond-like Carbon Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Acetylene Mixed with H2, Ar or N2.
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801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20111025
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