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應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Applicatio...

Ruey-Shiang Guh

應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
作者:	洪志宗,
其他作者:	顧瑞祥,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民100[2011]
版本:	初版
面頁冊數:	77面圖 : 30公分;
標題:	真空濺鍍
標題:	田口方法
標題:	均勻性
標題:	Vacuum Sputtering
標題:	Taguchi Method
標題:	uniformity
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-1107201103061700

應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
洪, 志宗

應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters / 洪志宗撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民100[2011]. - 77面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
真空濺鍍田口方法均勻性Vacuum SputteringTaguchi Methoduniformity

顧, 瑞祥

應用田口方法於真空濺鍍中獲取最佳鍍膜均勻性參數 = Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
LDR:01212nam0 2200301 450 001 674136
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010 0 $b 平裝
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205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民100[2011] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 77面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 顧瑞祥
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學工業工程與管理研究所
510 1 $a Application of Taguchi Method in the Vacuum Sputtering System for the Best Film Thickness Uniformity Parameters
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