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應用化學氣相沉積法磊晶成長氧化鋅薄膜之特性研究 = A Study of...

翁豊在

應用化學氣相沉積法磊晶成長氧化鋅薄膜之特性研究 = A Study of The Characteristics of ZnO Thin Films Using Chemical Vapor Deposition Method

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	A Study of The Characteristics of ZnO Thin Films Using Chemical Vapor Deposition Method
作者:	張晉魁,
其他作者:	翁豊在,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民100[2011]
版本:	初版
面頁冊數:	66面圖 : 30公分;
標題:	氧化鋅
標題:	化學氣相沉積法
標題:	X光繞射儀
標題:	螢光光譜儀
標題:	ZnO
標題:	CVD
標題:	X-ray Diffraction
標題:	Photoluminescence
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-1307201118575000

應用化學氣相沉積法磊晶成長氧化鋅薄膜之特性研究 = A Study of The Characteristics of ZnO Thin Films Using Chemical Vapor Deposition Method
張, 晉魁

應用化學氣相沉積法磊晶成長氧化鋅薄膜之特性研究 = A Study of The Characteristics of ZnO Thin Films Using Chemical Vapor Deposition Method / 張晉魁撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民100[2011]. - 66面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
氧化鋅化學氣相沉積法X光繞射儀螢光光譜儀ZnOCVDX-ray DiffractionPhotoluminescence

翁, 豊在

應用化學氣相沉積法磊晶成長氧化鋅薄膜之特性研究 = A Study of The Characteristics of ZnO Thin Films Using Chemical Vapor Deposition Method
LDR:01220nam0 2200325 450 001 674270
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010 0 $b 平裝
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200 1 $a 應用化學氣相沉積法磊晶成長氧化鋅薄膜之特性研究 $d A Study of The Characteristics of ZnO Thin Films Using Chemical Vapor Deposition Method $f 張晉魁撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民100[2011] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 66面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 翁豊在
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學機械與機電工程研究所
510 1 $a A Study of The Characteristics of ZnO Thin Films Using Chemical Vapor Deposition Method
610 # 0 $a 氧化鋅
610 # 0 $a 化學氣相沉積法
610 # 0 $a X光繞射儀
610 # 0 $a 螢光光譜儀
610 # 1 $a ZnO
610 # 1 $a CVD
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610 # 1 $a Photoluminescence
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770 1 $a Chin-Kuei Chang $3 776731
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801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20111025
801 1 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20111103
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