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陳坤煌

概要

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書目資訊

調控鎳開路電位時間置換低電位沉積鈷製備鈷鎳合金薄膜特性 = = Co(Ni) Film Prepared by Controlling Open Circuit Potential Duration of Ni During Surface-limited Redox Replacement of the Underpotential Deposited Co / by: 陳坤煌 (書目-語言資料,印刷品)

主題

Co(Ni) alloy films. EC-ALD. Interconnects. Surface-Limited Redox Reaction. Underpotential Deposition. 低電位沉積. 表面侷限氧化還原置換. 連導線. 鈷鎳合金薄膜. 電化學原子層沉積.

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