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林益銓

概要

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書目資訊

以電漿增強化學氣相沉積法製備氮氧化矽氣體阻障層之研究 = = A Study on the Preparation of Silicon Oxynitride Gas Barrier by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition / by: 林益銓 (書目-語言資料,印刷品)

主題

電漿增強化學氣相沉積法. 氣體阻障層. silicon oxynitride. 水氣滲透率. 氮氧化矽. plasma-enhanced chemical vapor deposition. WVTR. gas barrier layer.

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