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主題
孫世龍
概要
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書目資訊
以電化學原子層沉積Cu(Mn)薄膜的研究 = = Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD) /
by: 孫世龍
(書目-語言資料,印刷品)
主題
電化學原子層沉積.
copper seed layer.
熱穩定性.
欠電位沉積.
surface limited redox reaction (SLRR).
表面侷限反應.
underpotential deposition (UPD).
銅晶種層.
electrochemical atomic layer deposition (EC-ALD).
thermal stability.
處理中
...
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