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孫世龍

概要

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書目資訊

以電化學原子層沉積Cu(Mn)薄膜的研究 = = Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD) / by: 孫世龍 (書目-語言資料,印刷品)

主題

電化學原子層沉積. copper seed layer. 熱穩定性. 欠電位沉積. surface limited redox reaction (SLRR). 表面侷限反應. underpotential deposition (UPD). 銅晶種層. electrochemical atomic layer deposition (EC-ALD). thermal stability.

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