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以電化學原子層沉積Cu(Mn)薄膜的研究 = = Studies of ...

孫世龍

以電化學原子層沉積Cu(Mn)薄膜的研究 = = Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD) /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	以電化學原子層沉積Cu(Mn)薄膜的研究 =/ 孫世龍撰.
其他題名:	Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD) /
其他題名:	Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD).
作者:	孫世龍
出版者:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民103.07.,
面頁冊數:	[21] ,182面 :圖 ; : 30公分.;
附註:	指導教授：方昭訓.
標題:	電化學原子層沉積. -
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2507201407134500

以電化學原子層沉積Cu(Mn)薄膜的研究 = = Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD) /
孫世龍

以電化學原子層沉積Cu(Mn)薄膜的研究 =Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD) /Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD).孫世龍撰. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民103.07. - [21] ,182面 :圖 ;30公分.

指導教授：方昭訓.

含參考書目.Subjects--Topical Terms:

1011300
電化學原子層沉積.

以電化學原子層沉積Cu(Mn)薄膜的研究 = = Studies of Cu(Mn) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition (EC-ALD) /
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500 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與綠色能源工程研究所.
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650 # 4 $a 銅晶種層. $3 1011299
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