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快速退火對鐵和鐵鎳雙層膜微觀結構和電學特性的影響 = = Influen...

孫維佑

快速退火對鐵和鐵鎳雙層膜微觀結構和電學特性的影響 = = Influence of Rapid Thermal Annealing on the Microstructure and Electrical Properties of Iron and Iron-Nickel Bilayers /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	快速退火對鐵和鐵鎳雙層膜微觀結構和電學特性的影響 =/ 孫維佑.
其他題名:	Influence of Rapid Thermal Annealing on the Microstructure and Electrical Properties of Iron and Iron-Nickel Bilayers /
其他題名:	Influence of Rapid Thermal Annealing on the Microstructure and Electrical Properties of Iron and Iron-Nickel Bilayers.
作者:	孫維佑
出版者:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民113.07.,
面頁冊數:	[10], 67面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:	指導教授: 李炤佑.
標題:	Skyrmions. -
電子資源:	電子資源

快速退火對鐵和鐵鎳雙層膜微觀結構和電學特性的影響 = = Influence of Rapid Thermal Annealing on the Microstructure and Electrical Properties of Iron and Iron-Nickel Bilayers /
孫維佑

快速退火對鐵和鐵鎳雙層膜微觀結構和電學特性的影響 =Influence of Rapid Thermal Annealing on the Microstructure and Electrical Properties of Iron and Iron-Nickel Bilayers /Influence of Rapid Thermal Annealing on the Microstructure and Electrical Properties of Iron and Iron-Nickel Bilayers.孫維佑. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民113.07. - [10], 67面 :圖, 表 ;30公分.

指導教授: 李炤佑.

碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.

含參考書目.

本研究將探討快速退火對鐵雙層膜與鐵鎳雙層膜的影響，將三種不同膜厚(20 nm、50 nm、100 nm)的鐵做為薄膜沉積於矽基板上，在三種不同溫度(0℃、350℃、450℃)下進行5分鐘的退火。快速退火誘使鐵薄膜表面團簇聚集與晶粒成長，隨後沉積三種不同膜厚(20 nm、50 nm、100 nm)的鐵與鎳薄膜。實驗將通過SEM與AFM觀察其退火前後之表面形貌變化，使用EDS進行元素分析，並以XRD分析雙層膜之間的結晶性，此外，再通過四點探針量測薄膜退火後的影響，分析其I-V曲線與電阻在變電壓下的變化。研究結果顯示，我們成功利用薄膜生長機制與快速退火製備出具有沙丘狀的表面結構，類似Skyrmions的半圓球顆粒，再蒸鍍上一層導電層，並觀察到電流通過表面時，電阻產生的非線性的變化。當電壓增加至一定值時，電阻會大幅上升，可能是因為薄膜中類似Skyrmions結構的顆粒與其複雜的磁性結構，造成電子的散射增加，使其電阻上升。本研究旨在提供快速退火對鐵和鐵鎳雙層膜的微觀結構和電學特性影響的見解。.

(平裝)Subjects--Topical Terms:

1450245
Skyrmions.

快速退火對鐵和鐵鎳雙層膜微觀結構和電學特性的影響 = = Influence of Rapid Thermal Annealing on the Microstructure and Electrical Properties of Iron and Iron-Nickel Bilayers /
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520 3 $a This study explores the effects of rapid annealing on iron bilayers and iron-nickel bilayers. We deposited iron thin films of three different thicknesses (20 nm, 50 nm, 100 nm) on silicon wafer and annealed them at three different temperatures (0°C, 350°C, 450°C) for 5 minutes. Rapid annealing induced clustering and grain growth on the iron film surfaces, followed by the deposition thin films of iron and nickel of the three different thicknesses (20 nm, 50 nm, 100 nm). We used SEM and AFM to observe surface morphology changes before and after annealing, conducted elemental analysis with EDS, and analyzed the crystallinity between bilayers using XRD. Additionally, we measured the thin films' electrical properties after annealing with four-point probe to analyze I-V curves and resistance changes under varying voltages. The results showed that we successfully used the mechanism of thin film growth and rapid annealing to create a dune-like surface structure, similar to hemispherical particles of Skyrmions. After adding a conductive layer, we observed nonlinear resistance changes as current passed through the surface. When the voltage reached a certain level, the resistance increased significantly. This is likely due to increased electron scattering caused by the Skyrmion-like particles and their complex magnetic structures within the film. This study aims to provide insights into the effects of rapid annealing on the microstructure and electrical properties of iron and iron-nickel bilayers..
563 $a (平裝)
650 # 4 $a Skyrmions. $3 1450245
650 # 4 $a Four-point Probe. $3 1450244
650 # 4 $a Non-linear Resistance. $3 1450243
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