以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 = = Depo...
林煜喆

 

  • 以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 = = Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 =/ 林煜喆.
    其他題名: Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering /
    其他題名: Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering.
    作者: 林煜喆
    出版者: 雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民114.05.,
    面頁冊數: [12], 104面 :圖, 表 ; : 30公分.;
    附註: 指導教授: 劉文忠, 郭晉全.
    標題: 高功率脈衝磁控濺鍍. -
    電子資源: 電子資源
館藏
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T013804 圖書館B1F 博碩士論文專區 不流通(NON_CIR) 碩士論文(TM) TM 008.154M 4494 114 一般使用(Normal) 在架 0
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