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以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 = = Depo...
~
林煜喆
以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 = = Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 =/ 林煜喆.
其他題名:
Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering /
其他題名:
Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering.
作者:
林煜喆
出版者:
雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民114.05.,
面頁冊數:
[12], 104面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:
指導教授: 劉文忠, 郭晉全.
標題:
高功率脈衝磁控濺鍍. -
電子資源:
電子資源
以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 = = Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering /
林煜喆
以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 =
Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering /Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering.林煜喆. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民114.05. - [12], 104面 :圖, 表 ;30公分.
指導教授: 劉文忠, 郭晉全.
博士論文--國立虎尾科技大學動力機械工程系機械與機電工程博士班.
含參考書目.
(平裝).Subjects--Topical Terms:
1026675
高功率脈衝磁控濺鍍.
以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 = = Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering /
LDR
:01075cam a2200217 i 4500
001
1158583
008
251013s2025 ch ak erm 000 0 chi d
035
$a
(THES)113NYPI0311002
040
$a
NFU
$b
chi
$c
NFU
$e
CCR
041
0 #
$a
chi
$b
chi
$b
eng
084
$a
008.154M
$b
4494 114
$2
ncsclt
100
1
$a
林煜喆
$3
1174343
245
1 0
$a
以閉磁場異質雙陰極高功率脈衝磁控濺鍍製備合金薄膜之研究 =
$b
Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering /
$c
林煜喆.
246
1 1
$a
Deposition of alloy films synthesized using the closed magnetic field heterogeneous dual-cathodes high-power impulse magnetron sputtering.
250
$a
初版.
260
#
$a
雲林縣 :
$b
國立虎尾科技大學 ,
$c
民114.05.
300
$a
[12], 104面 :
$b
圖, 表 ;
$c
30公分.
500
$a
指導教授: 劉文忠, 郭晉全.
500
$a
學年度: 113.
502
$a
博士論文--國立虎尾科技大學動力機械工程系機械與機電工程博士班.
504
$a
含參考書目.
563
$a
(平裝).
650
# 4
$a
高功率脈衝磁控濺鍍.
$3
1026675
650
# 4
$a
閉磁場雙陰極磁控.
$3
1490131
650
# 4
$a
脈衝時間差.
$3
1490132
650
# 4
$a
鈦.
$3
1150804
650
# 4
$a
鋯.
$3
1083661
650
# 4
$a
High-power impulse magnetron sputtering.
$3
1490133
650
# 4
$a
Closed-field dual magnetron.
$3
1490134
650
# 4
$a
Pulse time offset.
$3
1490135
650
# 4
$a
Titanium.
$3
998043
650
# 4
$a
Zirconium.
$3
674452
856
7 #
$u
https://handle.ncl.edu.tw/11296/4676vc
$z
電子資源
$2
http
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全部
圖書館B1F 博碩士論文專區
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1
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碩士論文(TM)
TM 008.154M 4494 114
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0
1 筆 • 頁數 1 •
1
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