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電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects o...
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李俊雄
電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:
Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity
作者:
李俊雄,
其他作者:
莊賦祥,
出版地:
雲林縣
出版者:
國立虎尾科技大學; 國立虎尾科技大學;
出版年:
2007,民96
版本:
初版
面頁冊數:
49 面圖 : 30公分;
集叢名:
光電與材料科技研究所
電子資源:
http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0130107-161532
附註:
全文電子檔使用 校內外完全公開;國家圖書館於96年1月30日公開
電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity
李, 俊雄
電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響
= Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity / 李俊雄 ; 莊賦祥指導 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 2007,民96. - 49 面 ; 圖 ; 30公分. - (光電與材料科技研究所).
全文電子檔使用 校內外完全公開;國家圖書館於96年1月30日公開畢業學年度:95指導教授:莊賦祥.
莊, 賦祥
電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-bean System on the Film Thickness Uniformity
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不流通(NON_CIR)
碩士論文(TM)
TM 008.197 4024 95
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