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共濺鍍氧化銦鋅透明導電薄膜熱穩定性之研究 = Thermal stabi...

劉代山

共濺鍍氧化銦鋅透明導電薄膜熱穩定性之研究 = Thermal stability of Zn-doped ITO films prepared by rf magnetron cosputtering system

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Thermal stability of Zn-doped ITO films prepared by rf magnetron cosputtering system
作者:	林俊興,
其他作者:	劉代山,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學; 國立虎尾科技大學;
出版年:	2006,民95
版本:	初版
面頁冊數:	85 面圖 : 30公分;
集叢名:	光電與材料科技研究所
標題:	共濺鍍
標題:	氧化銦鋅
標題:	氧化鋅
標題:	IIO
標題:	ZnO
標題:	cosputtering
電子資源:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0811106-173349
附註:	全文電子檔使用校內校外均不公開

共濺鍍氧化銦鋅透明導電薄膜熱穩定性之研究 = Thermal stability of Zn-doped ITO films prepared by rf magnetron cosputtering system
林, 俊興

共濺鍍氧化銦鋅透明導電薄膜熱穩定性之研究 = Thermal stability of Zn-doped ITO films prepared by rf magnetron cosputtering system / 林俊興 ; 劉代山指導 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 2006,民95. - 85 面 ; 圖 ; 30公分. - (光電與材料科技研究所).
全文電子檔使用校內校外均不公開畢業學年度:94指導教授:劉代山.
共濺鍍氧化銦鋅氧化鋅IIOZnOcosputtering

劉, 代山

共濺鍍氧化銦鋅透明導電薄膜熱穩定性之研究 = Thermal stability of Zn-doped ITO films prepared by rf magnetron cosputtering system
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