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電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects o...
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國立虎尾科技大學
電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
Record Type:
Language materials, printed : monographic
Paralel Title:
Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
Author:
李俊雄,
Secondary Intellectual Responsibility:
國立虎尾科技大學
Place of Publication:
[雲林縣]
Published:
撰者; 撰者;
Year of Publication:
民96[2007]
Description:
60面圖,表 : 30公分;
Subject:
電子槍蒸鍍
Subject:
Correction Plate in E-beam System
Online resource:
http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0130107-161532
Summary:
對於光學薄膜而言其光學特性受厚度均勻的影響非常敏感,尤其在大面積光學鍍膜中,厚度均勻性更顯得相當重要,在製鍍過程中如何使基板上之膜厚均勻分佈,而達成改善厚度分佈均勻之目標,將是本論文討論的重點。論文研究的主題涵蓋以下:鍍5組多層膜,校正求出蒸鍍Ti3O5及SiO2之「平均蒸發時間」製程參數。首先不使用修正板來製鍍多層膜結構﹝膜堆厚度組合1.196(0.5LH0.5L)^9 1.56(0.5LH0.5L)^8﹞ 之濾光片,結果發現膜厚均勻度不佳。因此增加修正板來調整膜厚均勻度。修正板從Ti3O5及SiO2單層膜厚調校做起。實驗結果所獲得的膜厚誤差為2nm。接著製作多層膜濾光片,實驗結果顯示:針對穿透率T=50
電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
李, 俊雄
電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響
= Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity / 李俊雄撰 - [雲林縣] : 撰者, 民96[2007]. - 60面 ; 圖,表 ; 30公分.
參考書目:面.
電子槍蒸鍍Correction Plate in E-beam System
電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響 = Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
LDR
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電子槍蒸鍍系統製程參數及修正板對膜厚均勻度之影響
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Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
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李俊雄撰
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[雲林縣]
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民96[2007]
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圖,表
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30公分
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指導教授:莊賦祥
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參考書目:面
328
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碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
330
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對於光學薄膜而言其光學特性受厚度均勻的影響非常敏感,尤其在大面積光學鍍膜中,厚度均勻性更顯得相當重要,在製鍍過程中如何使基板上之膜厚均勻分佈,而達成改善厚度分佈均勻之目標,將是本論文討論的重點。論文研究的主題涵蓋以下:鍍5組多層膜,校正求出蒸鍍Ti3O5及SiO2之「平均蒸發時間」製程參數。首先不使用修正板來製鍍多層膜結構﹝膜堆厚度組合1.196(0.5LH0.5L)^9 1.56(0.5LH0.5L)^8﹞ 之濾光片,結果發現膜厚均勻度不佳。因此增加修正板來調整膜厚均勻度。修正板從Ti3O5及SiO2單層膜厚調校做起。實驗結果所獲得的膜厚誤差為2nm。接著製作多層膜濾光片,實驗結果顯示:針對穿透率T=50
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Effects of Experimental Parameters and Correction Plate in E-beam System on the Film Thickness Uniformity
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電子槍蒸鍍
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Correction Plate in E-beam System
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李
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俊雄
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國立虎尾科技大學
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工業工程與管理究所
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虎尾科技大學
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