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利用射頻磁控共濺鍍系統沉積鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜 = Aluminum...

劉代山

利用射頻磁控共濺鍍系統沉積鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜 = Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system
Author:	許加昇,
Secondary Intellectual Responsibility:	劉代山,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立虎尾科技大學
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民96[2007]
Edition:	初版
Description:	75面圖,表 : 30公分;
Subject:	氧化鋅
Subject:	ZnO
Online resource:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0731107-013001
Summary:	本研究利用射頻磁控共濺鍍系統，以氧化鋅以及氮化鋁為共濺鍍靶材，藉由改變施加在氧化鋅及氮化鋁靶材之射頻功率，製作並控制具有不同濃度的鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜，並在氮氣環境下進行後續熱處理製程，藉以活化摻雜在薄膜中的受體離子，製作p型氧化鋅薄膜。研究結果顯示，在室溫下所沉積之具有不同鋁原子濃度之共濺鍍薄膜呈現n型的導電型態，且薄膜的電子濃度隨著鋁原子濃度的上升而上升，當鋁原子理論值含量[Al/(Zn+Al)]為60

利用射頻磁控共濺鍍系統沉積鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜 = Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system
許, 加昇

利用射頻磁控共濺鍍系統沉積鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜 = Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system / 許加昇撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民96[2007]. - 75面 ; 圖,表 ; 30公分.
氧化鋅ZnO

劉, 代山

利用射頻磁控共濺鍍系統沉積鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜 = Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system
LDR:01610nam0 2200253 450 001 540351
010 0 $b 平裝
100 $a 20090416h akaa0chia50020302ba
101 0 $a chi
102 $a cw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 利用射頻磁控共濺鍍系統沉積鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜 $d Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system $f 許加昇撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民96[2007] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 75面 $c 圖,表 $d 30公分
314 $a 指導教授：劉代山
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
330 $a 本研究利用射頻磁控共濺鍍系統，以氧化鋅以及氮化鋁為共濺鍍靶材，藉由改變施加在氧化鋅及氮化鋁靶材之射頻功率，製作並控制具有不同濃度的鋁+氮共摻雜之氧化鋅薄膜，並在氮氣環境下進行後續熱處理製程，藉以活化摻雜在薄膜中的受體離子，製作p型氧化鋅薄膜。研究結果顯示，在室溫下所沉積之具有不同鋁原子濃度之共濺鍍薄膜呈現n型的導電型態，且薄膜的電子濃度隨著鋁原子濃度的上升而上升，當鋁原子理論值含量[Al/(Zn+Al)]為60
510 1 $a Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system
610 0 $a 氧化鋅
610 1 $a ZnO
681 $a 008.166M $b 0846
700 $a 許 $b 加昇 $3 523810
702 $a 劉 $b 代山 $3 490565
712 $a 國立虎尾科技大學 $b 工業工程與管理究所 $3 523742
770 $a Chia-Sheng Sheu $3 586597
772 $a Day-Shan Li $3 586598
801 0 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20071207 $g CCR
801 2 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20090416 $g CCR
856 7 $u http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0731107-013001