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不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A stu...

Day-Shan Liu

不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films
Author:	莊翔鈞,
Secondary Intellectual Responsibility:	劉代山,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民97[2008]
Edition:	初版
Description:	67面圖 : 30公分;
Subject:	氧化鋅緩衝層
Subject:	氧化鋅薄膜
Subject:	熱退火
Subject:	ZnO buffer layer
Subject:	ZnO thin film
Subject:	annealing
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2307200811554300

不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films
莊, 翔鈞

不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films / 莊翔鈞撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民97[2008]. - 67面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
氧化鋅緩衝層氧化鋅薄膜熱退火ZnO buffer layerZnO thin filmannealing

劉, 代山

不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 = A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films
LDR:01224nam a2200289 a 4500 001 549236
010 0 $b 平裝
100 $a 20090331h akaa0chia50020302ba
101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
200 1 $a 不同氣體環境熱處理氧化鋅緩衝層對共濺鍍薄膜特性影響之研究 $d A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films $f 莊翔鈞撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民97[2008] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 67面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 劉代山
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a A study of the zno buffer layer annealed under various atmosphere and its effect on the post-deposition cosputtering films
610 0 $a 氧化鋅緩衝層
610 0 $a 氧化鋅薄膜
610 0 $a 熱退火
610 1 $a ZnO buffer layer
610 1 $a ZnO thin film
610 1 $a annealing
681 $a 008.166M $b 4488
700 $a 莊 $b 翔鈞 $3 533931
702 $a 劉 $b 代山 $3 490565
770 $a Chuang Hsiang chun $3 533932
772 $a Day-Shan Liu $3 541116
801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081111
801 1 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081223
856 4 $u http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2307200811554300