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高分子輻射化學原理與應用
~
哈鴻飛
高分子輻射化學原理與應用
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
作者:
哈鴻飛
合作者:
吳季蘭
出版地:
北京
出版者:
北京大學出版社;
出版年:
2002
標題:
高分子化學 - 輻射化學 -
電子資源:
http://cec.lib.apabi.com:80/product.asp?BookID=ISBN7%2d301%2d05470%2dX
附註:
本書獲北京大學光彩著作基金資助
ISBN:
730105470X
高分子輻射化學原理與應用
哈鴻飛
高分子輻射化學原理與應用
/ 哈鴻飛, 吳季蘭編著 - 北京 : 北京大學出版社, 2002.
本書獲北京大學光彩著作基金資助.
ISBN 730105470X
高分子化學 -- 輻射化學
吳季蘭
高分子輻射化學原理與應用
LDR
:00638cam0 22001813 45
001
640684
009
Apabi00038569
010
0
$a
730105470X
$d
CNY4.40
100
$a
20090720d2002 em y0chiy0109 e
101
0
$a
chi
102
$a
cn
200
1
$a
高分子輻射化學原理與應用
$f
哈鴻飛, 吳季蘭編著
204
0
$a
電子資源
210
$a
北京
$d
2002
$c
北京大學出版社
300
$a
本書獲北京大學光彩著作基金資助
337
$a
需要下載並安裝APABI Reader軟件閱讀電子圖書
606
0
$2
cth
$a
高分子化學
$x
輻射化學
$x
高等學校
$x
教材
$3
706074
687
$a
O644.2
$v
4
700
0
$a
哈鴻飛
$3
706072
701
0
$a
吳季蘭
$3
706073
801
0
$a
CN
$b
方正APABI
$c
20090720
856
7
$u
http://cec.lib.apabi.com:80/product.asp?BookID=ISBN7%2d301%2d05470%2dX
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