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鈦鋁摻雜氮氧化鉿鑭在前瞻金氧半電容特性研究 = Electrical a...

Yu-Zhen Wu

鈦鋁摻雜氮氧化鉿鑭在前瞻金氧半電容特性研究 = Electrical and Reliability Characteristics of Advanced Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Various Ti- and Al-doped HfLaON Dielectrics

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Electrical and Reliability Characteristics of Advanced Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Various Ti- and Al-doped HfLaON Dielectrics
作者:	吳昱震,
其他作者:	洪政豪,
其他作者:	鄭錦隆,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民99[2010]
版本:	初版
面頁冊數:	99面圖 : 30公分;
標題:	後沉積熱處理
標題:	氮氧化鈦鋁鉿鑭
標題:	濺鍍機
標題:	高介電係數
標題:	HfLaTiAlON
標題:	High-k
標題:	Post-Deposition Annealing
標題:	Sputter
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2007201022402100

鈦鋁摻雜氮氧化鉿鑭在前瞻金氧半電容特性研究 = Electrical and Reliability Characteristics of Advanced Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Various Ti- and Al-doped HfLaON Dielectrics
吳, 昱震

鈦鋁摻雜氮氧化鉿鑭在前瞻金氧半電容特性研究 = Electrical and Reliability Characteristics of Advanced Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Various Ti- and Al-doped HfLaON Dielectrics / 吳昱震撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 99面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
後沉積熱處理氮氧化鈦鋁鉿鑭濺鍍機高介電係數HfLaTiAlONHigh-kPost-Deposition AnnealingSputter

洪, 政豪

鈦鋁摻雜氮氧化鉿鑭在前瞻金氧半電容特性研究 = Electrical and Reliability Characteristics of Advanced Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Various Ti- and Al-doped HfLaON Dielectrics
LDR:01316nam0 2200313 450 001 649283
010 0 $b 平裝
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200 1 $a 鈦鋁摻雜氮氧化鉿鑭在前瞻金氧半電容特性研究 $d Electrical and Reliability Characteristics of Advanced Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Various Ti- and Al-doped HfLaON Dielectrics $f 吳昱震撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民99[2010] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 99面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 洪政豪、鄭錦隆
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學機械與機電工程研究所
510 1 $a Electrical and Reliability Characteristics of Advanced Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with Various Ti- and Al-doped HfLaON Dielectrics
610 0 $a 後沉積熱處理
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801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20100914
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