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奈米級雷射直寫平臺之研製 = Development of Laser ...

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Wen-Yuh Jywe

奈米級雷射直寫平臺之研製 = Development of Laser Direct Writing Equipment of Nano Stage

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Development of Laser Direct Writing Equipment of Nano Stage
Author:	王昱翔,
Secondary Intellectual Responsibility:	覺文郁,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民101[2012]
Description:	125面圖 : 30公分;
Subject:	線性馬達平台
Subject:	壓電平台
Subject:	雷射干涉儀
Subject:	Nano-Stage
Subject:	Interferometer
Subject:	Lithography Instrument
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-3101201216342200

奈米級雷射直寫平臺之研製 = Development of Laser Direct Writing Equipment of Nano Stage
王, 昱翔

奈米級雷射直寫平臺之研製 = Development of Laser Direct Writing Equipment of Nano Stage / 王昱翔撰 - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民101[2012]. - 125面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
線性馬達平台壓電平台雷射干涉儀Nano-StageInterferometerLithography Instrument

覺, 文郁

奈米級雷射直寫平臺之研製 = Development of Laser Direct Writing Equipment of Nano Stage
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010 0 $b 平裝
100 $a 20120306d m y0chib
101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
200 1 $a 奈米級雷射直寫平臺之研製 $d Development of Laser Direct Writing Equipment of Nano Stage $f 王昱翔撰
210 $a 雲林縣 $d 民101[2012] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 125面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 覺文郁
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學機械與機電工程研究所
510 1 $a Development of Laser Direct Writing Equipment of Nano Stage
610 # 0 $a 線性馬達平台
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610 # 0 $a 雷射干涉儀
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圖書館B1F 博碩士論文專區

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碩士論文(TM)

TM 008.154M 1068 101

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一般圖書

008.154M 1068 101

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