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反應式磁控濺鍍製備單層CrAlN及CrN/CrAlN/Al2O3多層堆疊...
~
楊書維
反應式磁控濺鍍製備單層CrAlN及CrN/CrAlN/Al2O3多層堆疊選擇性吸收薄膜之高溫性能研究 = = Studying High Temperature Characteristic of CrAlN and CrN/CrAlN/Al2O3 Selective Absorption Film On Stainless Steel Substrate By Using Reactive Magnetron Sputtering /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
反應式磁控濺鍍製備單層CrAlN及CrN/CrAlN/Al2O3多層堆疊選擇性吸收薄膜之高溫性能研究 =/ 楊書維撰.
其他題名:
Studying High Temperature Characteristic of CrAlN and CrN/CrAlN/Al2O3 Selective Absorption Film On Stainless Steel Substrate By Using Reactive Magnetron Sputtering /
其他題名:
Studying High Temperature Characteristic of CrAlN and CrN/CrAlN/Al2O3 Selective Absorption Film On Stainless Steel Substrate By Using Reactive Magnetron Sputtering.
作者:
楊書維
出版者:
雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民104.07.,
面頁冊數:
[15], 94面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:
指導教授:蔡定侃.
標題:
optical property. -
電子資源:
http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-1108201516495300
反應式磁控濺鍍製備單層CrAlN及CrN/CrAlN/Al2O3多層堆疊選擇性吸收薄膜之高溫性能研究 = = Studying High Temperature Characteristic of CrAlN and CrN/CrAlN/Al2O3 Selective Absorption Film On Stainless Steel Substrate By Using Reactive Magnetron Sputtering /
楊書維
反應式磁控濺鍍製備單層CrAlN及CrN/CrAlN/Al2O3多層堆疊選擇性吸收薄膜之高溫性能研究 =
Studying High Temperature Characteristic of CrAlN and CrN/CrAlN/Al2O3 Selective Absorption Film On Stainless Steel Substrate By Using Reactive Magnetron Sputtering /Studying High Temperature Characteristic of CrAlN and CrN/CrAlN/Al2O3 Selective Absorption Film On Stainless Steel Substrate By Using Reactive Magnetron Sputtering.楊書維撰. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民104.07. - [15], 94面 :圖, 表 ;30公分.
指導教授:蔡定侃.
含參考書目.Subjects--Topical Terms:
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optical property.
反應式磁控濺鍍製備單層CrAlN及CrN/CrAlN/Al2O3多層堆疊選擇性吸收薄膜之高溫性能研究 = = Studying High Temperature Characteristic of CrAlN and CrN/CrAlN/Al2O3 Selective Absorption Film On Stainless Steel Substrate By Using Reactive Magnetron Sputtering /
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碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.
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圖書館B1F 博碩士論文專區
圖書館B1F 可外借論文區
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T011237
圖書館B1F 可外借論文區
不流通(NON_CIR)
一般圖書
008.152M 4652 104 c.2
一般使用(Normal)
在架
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T011236
圖書館B1F 博碩士論文專區
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碩士論文(TM)
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