利用緩衝層結構改善薄膜沉積於壓克力基板附著度之研究 = = A St...
陳建智

 

  • 利用緩衝層結構改善薄膜沉積於壓克力基板附著度之研究 = = A Study of the Adhesion Improvement on a Thin Film Deposited on the PMMA Substrate Using Buffer-Layered Structure /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 利用緩衝層結構改善薄膜沉積於壓克力基板附著度之研究 = / 陳建智撰.
    其他題名: A Study of the Adhesion Improvement on a Thin Film Deposited on the PMMA Substrate Using Buffer-Layered Structure /
    其他題名: A Study of the Adhesion Improvement on a Thin Film Deposited on the PMMA Substrate Using Buffer-Layered Structure.
    作者: 陳建智
    出版者: 雲林縣 : 國立虎尾科技大學 , : 民105.07.,
    面頁冊數: [9], 82面 : 圖, 表 ; : 30公分.;
    附註: 指導教授:劉代山.
    標題: 電漿增強化學氣相沉積系統. -
    電子資源: http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2507201616053900
館藏
  • 2 筆 • 頁數 1 •
 
T007924 圖書館B1F 博碩士論文專區 不流通(NON_CIR) 碩士論文(TM) TM 008.166M 7518:3 105 一般使用(Normal) 在架 0
T007925 圖書館B1F 可外借論文區 不流通(NON_CIR) 一般圖書 008.166M 7518:3 105 c.2 一般使用(Normal) 在架 0
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