國立虎尾科技大學 |

登入

回首頁

以脈衝鉛低電位沉積在Ru/pattern/Si基板上製備高填孔性銅薄膜 ...

翁智彥

以脈衝鉛低電位沉積在Ru/pattern/Si基板上製備高填孔性銅薄膜 = = Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	以脈衝鉛低電位沉積在Ru/pattern/Si基板上製備高填孔性銅薄膜 =/ 翁智彥撰.
其他題名:	Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si /
其他題名:	Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si.
作者:	翁智彥
出版者:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民106.07.,
面頁冊數:	[13], 109面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:	指導教授：方昭訓.
標題:	電化學原子層沉積. -
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2208201701343300

以脈衝鉛低電位沉積在Ru/pattern/Si基板上製備高填孔性銅薄膜 = = Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si /
翁智彥

以脈衝鉛低電位沉積在Ru/pattern/Si基板上製備高填孔性銅薄膜 =Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si /Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si.翁智彥撰. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民106.07. - [13], 109面 :圖, 表 ;30公分.

指導教授：方昭訓.

含參考書目.Subjects--Topical Terms:

1011300
電化學原子層沉積.

以脈衝鉛低電位沉積在Ru/pattern/Si基板上製備高填孔性銅薄膜 = = Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si /
LDR:00902nam a2200181 i 450 001 875594
008 171023s2017 xx ak erm 000 0 chi d
040 $a NFU $b chi $c NFU $e CCR
041 0 # $a chi $b chi $b eng
084 $a 008.152M $b 8080 106 $2 ncsclt
100 1 $a 翁智彥 $q (Jhih-Yan Wong) $3 1124211
245 1 0 $a 以脈衝鉛低電位沉積在Ru/pattern/Si基板上製備高填孔性銅薄膜 = $b Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si / $c 翁智彥撰.
246 3 1 $a Use of Pulse Pb-UPDs Fabricates a High Gap-Filling Cu Film on Trenched Ru/pattern/Si.
250 $a 初版.
260 # $a 雲林縣 : $b 國立虎尾科技大學 , $c 民106.07.
300 $a [13], 109面 : $b 圖, 表 ; $c 30公分.
500 $a 指導教授：方昭訓.
500 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.
504 $a 含參考書目.
650 # 4 $a 電化學原子層沉積. $3 1011300
650 # 4 $a 脈衝低電位沉積. $3 1385903
650 # 4 $a 高填孔性. $3 1385904
650 # 4 $a 銅內連導線. $3 1385905
650 # 4 $a ECALD. $3 1385906
650 # 4 $a Pulse UPD. $3 1385907
650 # 4 $a gap-filling. $3 1385908
650 # 4 $a Cu Interconnect. $3 1385909
856 4 # $u http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2208201701343300