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添加劑與酸鹼值以電化學原子層沉積銅薄膜於鈷基板之特性 = = Addit...

吳佳玲

添加劑與酸鹼值以電化學原子層沉積銅薄膜於鈷基板之特性 = = Additives and pH Value Affecting the Growth of Cu Film Prepared on a Cobalt-based Substrate via Electrochemical Atomic Layer Deposition /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	添加劑與酸鹼值以電化學原子層沉積銅薄膜於鈷基板之特性 =/ 吳佳玲撰.
其他題名:	Additives and pH Value Affecting the Growth of Cu Film Prepared on a Cobalt-based Substrate via Electrochemical Atomic Layer Deposition /
其他題名:	Additives and pH Value Affecting the Growth of Cu Film Prepared on a Cobalt-based Substrate via Electrochemical Atomic Layer Deposition.
作者:	吳佳玲
出版者:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民106.07.,
面頁冊數:	[12], 162面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:	指導教授：方昭訓.
標題:	電化學原子層沉積. -
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-1708201714390400

添加劑與酸鹼值以電化學原子層沉積銅薄膜於鈷基板之特性 = = Additives and pH Value Affecting the Growth of Cu Film Prepared on a Cobalt-based Substrate via Electrochemical Atomic Layer Deposition /
吳佳玲

添加劑與酸鹼值以電化學原子層沉積銅薄膜於鈷基板之特性 =Additives and pH Value Affecting the Growth of Cu Film Prepared on a Cobalt-based Substrate via Electrochemical Atomic Layer Deposition /Additives and pH Value Affecting the Growth of Cu Film Prepared on a Cobalt-based Substrate via Electrochemical Atomic Layer Deposition.吳佳玲撰. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民106.07. - [12], 162面 :圖, 表 ;30公分.

指導教授：方昭訓.

含參考書目.Subjects--Topical Terms:

1011300
電化學原子層沉積.

添加劑與酸鹼值以電化學原子層沉積銅薄膜於鈷基板之特性 = = Additives and pH Value Affecting the Growth of Cu Film Prepared on a Cobalt-based Substrate via Electrochemical Atomic Layer Deposition /
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500 $a 指導教授：方昭訓.
500 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.
504 $a 含參考書目.
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650 # 4 $a 銅金屬化製程. $3 1085099
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650 # 4 $a ethylenediamine. $3 1085094
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