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臭氧水於晶圓洗淨過程濃度不穩之研究改善 = = Discuss and ...

張大成

臭氧水於晶圓洗淨過程濃度不穩之研究改善 = = Discuss and improvement the question of ozone concentration is unstable in the wafer cleaning process /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	臭氧水於晶圓洗淨過程濃度不穩之研究改善 =/ 張大成.
其他題名:	Discuss and improvement the question of ozone concentration is unstable in the wafer cleaning process /
其他題名:	Discuss and improvement the question of ozone concentration is unstable in the wafer cleaning process.
作者:	張大成
出版者:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民108.09.,
面頁冊數:	[8], 53 面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:	指導教授: 陳興忪.
標題:	Oxide film. -
電子資源:	電子資源

臭氧水於晶圓洗淨過程濃度不穩之研究改善 = = Discuss and improvement the question of ozone concentration is unstable in the wafer cleaning process /
張大成

臭氧水於晶圓洗淨過程濃度不穩之研究改善 =Discuss and improvement the question of ozone concentration is unstable in the wafer cleaning process /Discuss and improvement the question of ozone concentration is unstable in the wafer cleaning process.張大成. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民108.09. - [8], 53 面 :圖, 表 ;30公分.

指導教授: 陳興忪.

碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士在職專班.

含參考書目.

(平裝).Subjects--Topical Terms:

1083658
Oxide film.

臭氧水於晶圓洗淨過程濃度不穩之研究改善 = = Discuss and improvement the question of ozone concentration is unstable in the wafer cleaning process /
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