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低電阻率自我鈍化型銅銦合金薄膜之固溶特性及電性研究 = Structur...

謝馨儀

低電阻率自我鈍化型銅銦合金薄膜之固溶特性及電性研究 = Structural and passivate behaviors of Cu(In) thin film

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Structural and passivate behaviors of Cu(In) thin film
Author:	謝馨儀,
Secondary Intellectual Responsibility:	方昭訓,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學; 國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	2006,民95
Edition:	初版
Description:	103 面圖 : 30公分;
Series:	光電與材料科技研究所
Subject:	氧化銦
Subject:	磁控濺鍍
Subject:	自我鈍化
Subject:	薄膜電晶體
Subject:	銅銦合金薄膜
Subject:	Cu(In) alloy thin film
Subject:	Thin-film transistor
Subject:	co-sputtering
Subject:	self-passivated
Online resource:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0808106-141542
Notes:	全文電子檔使用校內校外均不公開

低電阻率自我鈍化型銅銦合金薄膜之固溶特性及電性研究 = Structural and passivate behaviors of Cu(In) thin film
謝, 馨儀

低電阻率自我鈍化型銅銦合金薄膜之固溶特性及電性研究 = Structural and passivate behaviors of Cu(In) thin film / 謝馨儀 ; 方昭訓指導 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 2006,民95. - 103 面 ; 圖 ; 30公分. - (光電與材料科技研究所).
全文電子檔使用校內校外均不公開畢業學年度:94指導教授:方昭訓.
氧化銦磁控濺鍍自我鈍化薄膜電晶體銅銦合金薄膜Cu(In) alloy thin filmThin-film transistorco-sputteringself-passivated

方, 昭訓

低電阻率自我鈍化型銅銦合金薄膜之固溶特性及電性研究 = Structural and passivate behaviors of Cu(In) thin film
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