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超薄Ta-Si-C 非晶質擴散阻障層銅製程特性探討 = Ultrathi...

邱敬富

超薄Ta-Si-C 非晶質擴散阻障層銅製程特性探討 = Ultrathin ta-si-c amorphous films as a diffusion barrier for copper metallization

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Ultrathin ta-si-c amorphous films as a diffusion barrier for copper metallization
Author:	邱敬富,
Secondary Intellectual Responsibility:	方昭訓,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民97[2008]
Edition:	初版
Description:	200面圖 : 30公分;
Subject:	擴散阻礙層
Subject:	碳
Subject:	鉭矽化物
Subject:	銅製程
Subject:	非晶質薄膜
Subject:	Carbon
Subject:	Copper metallization
Subject:	TaSi2
Subject:	amorphous films
Subject:	diffusion barrier
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2907200813062300

超薄Ta-Si-C 非晶質擴散阻障層銅製程特性探討 = Ultrathin ta-si-c amorphous films as a diffusion barrier for copper metallization
邱, 敬富

超薄Ta-Si-C 非晶質擴散阻障層銅製程特性探討 = Ultrathin ta-si-c amorphous films as a diffusion barrier for copper metallization / 邱敬富撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民97[2008]. - 200面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
擴散阻礙層碳鉭矽化物銅製程非晶質薄膜CarbonCopper metallizationTaSi2amorphous filmsdiffusion barrier

方, 昭訓

超薄Ta-Si-C 非晶質擴散阻障層銅製程特性探討 = Ultrathin ta-si-c amorphous films as a diffusion barrier for copper metallization
LDR:01223nam0 2200337 450 001 549193
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102 $a tw
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210 $a 雲林縣 $d 民97[2008] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 200面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 方昭訓
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a Ultrathin ta-si-c amorphous films as a diffusion barrier for copper metallization
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801 1 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081224
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