超薄Ta-Si-C 非晶質擴散阻障層銅製程特性探討 = Ultrathi...
邱敬富

 

  • 超薄Ta-Si-C 非晶質擴散阻障層銅製程特性探討 = Ultrathin ta-si-c amorphous films as a diffusion barrier for copper metallization
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : 單行本
    並列題名: Ultrathin ta-si-c amorphous films as a diffusion barrier for copper metallization
    作者: 邱敬富,
    其他作者: 方昭訓,
    出版地: 雲林縣
    出版者: 國立虎尾科技大學;
    出版年: 民97[2008]
    版本: 初版
    面頁冊數: 200面圖 : 30公分;
    標題: 擴散阻礙層
    標題:
    標題: 鉭矽化物
    標題: 銅製程
    標題: 非晶質薄膜
    標題: Carbon
    標題: Copper metallization
    標題: TaSi2
    標題: amorphous films
    標題: diffusion barrier
    電子資源: http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2907200813062300
館藏
  • 2 筆 • 頁數 1 •
 
T000512 圖書館B1F 博碩士論文專區 不流通(NON_CIR) 碩士論文(TM) TM 008.166M 7743 97 一般使用(Normal) 在架 0
T000513 圖書館B1F 可外借論文區 不流通(NON_CIR) 一般圖書 008.166M 7743 97 2 一般使用(Normal) 在架 0
  • 2 筆 • 頁數 1 •
多媒體
評論
Export
取書館別
 
 
變更密碼[密碼必須為2種組合(英文和數字)及長度為10碼以上]
登入