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使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The S...

Yen -Yu Lin

使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition
Author:	林彥佑,
Secondary Intellectual Responsibility:	張益新,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民99[2010]
Edition:	初版
Description:	66面圖 : 30公分;
Subject:	六羰鎢
Subject:	鎢
Subject:	雷射化學氣相沈積
Subject:	LCVD
Subject:	Tungsten
Subject:	W(CO)6
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2701201014492500

使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition
林, 彥佑

使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition / 林彥佑撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 66面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
六羰鎢鎢雷射化學氣相沈積LCVDTungstenW(CO)6

張, 益新

使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition
LDR:01079nam0a220028900 4500 001 638094
010 0 $b 平裝
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210 $a 雲林縣 $d 民99[2010] $c 國立虎尾科技大學
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314 $a 指導教授 : 張益新
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition
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