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使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The S...

Yen -Yu Lin

使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition
作者:	林彥佑,
其他作者:	張益新,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民99[2010]
版本:	初版
面頁冊數:	66面圖 : 30公分;
標題:	六羰鎢
標題:	鎢
標題:	雷射化學氣相沈積
標題:	LCVD
標題:	Tungsten
標題:	W(CO)6
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2701201014492500

使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition
林, 彥佑

使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition / 林彥佑撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 66面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
六羰鎢鎢雷射化學氣相沈積LCVDTungstenW(CO)6

張, 益新

使用雷射化學氣相法以W(CO)6沉積鎢金屬薄膜之特性研究 = The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition
LDR:01079nam0a220028900 4500 001 638094
010 0 $b 平裝
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205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民99[2010] $c 國立虎尾科技大學
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314 $a 指導教授 : 張益新
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a The Study of W Thin Film Grown Using Laser Chemical Vapor Deposition
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