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林隆奕

概要

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書目資訊

添加劑對鈷基薄膜上以電化學原子層沉積銅薄膜之研究 = = Additives Affecting the Growth of Cu Thin Film Prepared on Cobalt-Based Substrates by Electrochemical Atomic Layer Deposition / by: 林隆奕 (書目-語言資料,印刷品)

主題

cobalt substrate.31083180 copper metallization. Electrochemical atomic layer deposition (EC-ALD). ethylenediamine. 乙二胺. 鈷基板. 銅金屬化製程. 電化學原子層沉積.

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